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真空井式坩埚 1400ℂ/div>
真空井式坩埚 1400ℂ/div>
  • 型号

    QSH-VCF-1400T
  • 产地

    上海
  • 品牌

    全硕
  • 产品分类

    井式炈/span>
  • 关注?/p>6489

  • 参考报件/p>1-5万元

产品详情

本设备是由石英坩埚(或氧化铝陶瓷坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片,也可用于烘烧或烧结陶瓷材料、/span>



井式? src=

二、真空井式坩埚炉参数说明

型号

QSH-VCF-1200T

QSH-VCF-1400T

QSH-VCF-1700T

工作温度

=/span>1200ℂ/span>

=/span>1400ℂ/span>

=/span>1700ℂ/span>

加热元件

电阻东/span>

硅碳棑/span>

硅钼棑/span>

热电偵/span>

K垊/span>

S垊/span>

B垊/span>

控温方式

51段可编程自动控制+/span>PID调节控温精度

升温速率

0-10ℂ/span>

0-20ℂ/span>

控温精度

±1ℂ/span>

真空?/span>

-0.1MPa

炉膛材料

氧化铝陶瓷纤维板

炉壳

双层炉壳,风冷结构(炉底安装两个散热风扇),炉壳表面温度低于60?/span>

额定功率

1KW?KW

常用炉膛尺寸

Φ240xH220mm:/span>Φ40xH300mm:/span>Φ60xH300mm:/span>Φ80xH300mm:/span>Φ100xH300mm:/span>Φ120xH300mm

三、温控程序曲线示意图(六段为例)9/span>

LD-1700M 说明? src=

四、温控程序对应符号及其意义:

提示?/span>

输入数据

意义

C 01

0

起始温度倻/span>

t 01

60

?~300℃的升值时间为60分钟

C 02

300

个目标温度倻/span>

t 02

10

300℃保温时?0分钟

C 03

300

第二个目标温度倻/span>

t 03

240

?00~1500℃的升值时间为240分钟

C 04

1500

第三个目标温度倻/span>

t 04

30

1500℃恒温时?0分钟

C 05

1500

第四个目标温度倻/span>

t 05

260

?500~200℃的升值时间为260分钟

C 06

200

第五个目标温度倻/span>

t 06

?21

程序运行结束,自然降?/span>


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