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CVD氧化铝基底单层二硫化钻/div>
CVD氧化铝基底单层二硫化钻/div>
  • 型号

    101031
  • 产地

    江苏
  • 品牌

    先丰纳米
  • 产品分类

    纳米材料
  • 关注?/p>2168

  • 参考报件/p>

产品详情
货号 CAS叶/td> 编号 包装 参数
101031 1317-33-5 XF165 1 监/td> 基底尺寸: 6 mmx8 mm

产品名称中文名称:CVD氧化铝基底单层二硫化钻/span>

英文名称9/span>Single Layer MoS2onAl2O3

性质

形态:薄膜

参数

基底:氧化铝

基底尺寸? mm*8 mm

片径范围?0-50 μm

厚度?.6?.8 nm

应用

先丰纳米**推出CVD法制备的单层二硫化钼,相比较锂插层制备的单层二硫化钼,该产品具有缺陷少,层数可控,优异的光学性质,是研究层数和荧光效应和制备器件的优异材料,欢迎咨询、/span>


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