货号	CAS叶�/td>	编号	包装	参数
102674	7440-42-8	XF239	1牆�/td>	1英寸x1英寸，SiO2/Si基底
102675	7440-42-8	XF239	1牆�/td>	1英寸x2英寸，SiO2/Si基底
102676	7440-42-8	XF239	1牆�/td>	2英寸x2英寸，SiO2/Si基底

产品名称

中文名称：单层氮化硼薄膜＇�/span>HBN（�/span>

英文名称９�/span>Monolayer boron nitridefilm＇�span style="font-family: Arial;">HBN（�/span>

性质

覆盖率：100%

基底９�/span>SiO2/Si

晶粒尺寸�?gt;4 um

氧化层：300 nm
硅：500 um

应用

HBN薄膜可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层，以及电子的隧道阻挡层，使其具有广泛的应用，例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片、�/span>