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高真空磁控溅射系绞/div>
高真空磁控溅射系绞/div>
  • 型号

    PVD-100
  • 产地

    福建
  • 品牌

    韫茂科技
  • 产品分类

    实验设备
  • 关注?/p>2976

  • 参考报件/p>

产品详情

高真空磁控溅射系绞/span>

005.png

技术参数:

1高真空腔体:2个腔?包括负荷锁及Sputtering,极限真空,极限压?lt;5e-9 Torr

2排气速率:从ATM?E-7 Torr<20分钟(负载?

3样品台:**4寸Wafer,可加热RT-300ºC







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