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C 石墨靶材
C 石墨靶材
  • 型号

    RDB-BC-C
  • 产地

    上海
  • 品牌

    上海研倌/span>
  • 产品分类

    耐磨衬片
  • 关注?/p>1129

  • 参考报件/p>

产品详情

1、产品信?nbsp;

货号

厚度

纯度?(/span>

形貌

颜色

RDB-BC-C

可定刵/span>

99.9

靶材

黑色或深灰色

2、产品规栻/span>

定制

3、产品概?/span>

石墨(C)靶材通常用于物理蒸发沉积和磁控溅射等薄膜沉积工艺,主要应用于制备碳薄膜、导电薄膜、光学薄膜和其他高科技领域的产品。由于石墨具有良好的导电性和化学稳定性,因此在这些领域中得到广泛应用。例如,石墨靶材可用于制备导电薄膜、光学涂层、太阳能电池等。此外,石墨靶材还可用于制备显示器件、光电器件和其他高端工业产品、/span>

4、产品用逓/span>

高纯度:石墨靶材通常具有高纯度,能够满足各种工艺对材料纯度的要求、/span>

工艺适用性:石墨靶材可用于不同的薄膜沉积工艺,包括物理蒸发沉积和磁控溅射等、/span>

应用领域:石墨靶材在导电薄膜、光学涂层、太阳能电池等领域有广泛的应用、/span>

性能优异:石墨靶材具有良好的导电性和化学稳定性,能够满足高端产品对材料性能的要求、/span>


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