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Ta 钽靶杏/div>
Ta 钽靶杏/div>
  • 型号

    RDB-BC-Ta
  • 产地

    上海
  • 品牌

    上海研倌/span>
  • 产品分类

    耐磨衬片
  • 关注?/p>972

  • 参考报件/p>

产品详情

1、产品信?nbsp;

货号

厚度

纯度?(/span>

形貌

颜色

RDB-BC-Ta

可定刵/span>

99.9

靶材

金属灰色或银灰色

2、产品规栻/span>

定制

3、产品概?/span>

钽(Ta)靶材通常用于物理蒸发沉积和磁控溅射等薄膜沉积工艺,主要应用于制备具有高温稳定性和耐腐蚀性的薄膜。由于钽具有良好的化学稳定性和高熔点,因此在这些领域中得到广泛应用。例如,钽靶材可用于制备具有高温稳定性和耐腐蚀性能的薄膜,如在半导体制造、光学涂层、热防护膜等领域。此外,钽靶材还可用于制备具有特殊功能的薄膜,如防腐蚀膜、导热膜等、/span>

4、产品用逓/span>

高纯度:钽靶材通常具有高纯度,能够满足各种工艺对材料纯度的要求、/span>

工艺适用性:钽靶材可用于不同的薄膜沉积工艺,包括物理蒸发沉积和磁控溅射等、/span>

应用领域:钽靶材在半导体制造、光学涂层、装饰膜等领域有广泛的应用、/span>

性能优异:钽靶材具有良好的化学稳定性和耐腐蚀性能,能够满足高端产品对材料性能的要求、/span>


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