一�?/span>设备简今�/span>

本设备为实验型石墨化炉，主要用于石墨烯膜，碳纸，PI膜等材料的实验室工艺验证、�/span>

二�?/span>设备优势

�?（�/span>设备冄�/span>电极采用铝材质散热器结构＋�/span>同时采用风冷散热方式，确俜�/span>

�?（�/span>该设备具备紧凑的体积设计，使得操作过程简便快捷、�/span>

＇�/span>3（�/span>�?*温度可达�?/span>2400℃，充分满足了碳材料工艺研发过程中的各项需求、�/span>

＇�/span>4（�/span>设备采用单壁结构腔体，并配备外置钣金罩，与腔体之间形成空气层隔热，从而实现了更为高效的保温效果，并显著降低了能耗水平、�/span>

三�?/span>技术参�?/span>

进料方式	上开门式
总电溏�/span>	220V
总功玆�/span>	6KW
控温精度	（恒温）±1ℂ�/span>
有效工作匹�/span>	Φ90*50mm
加热元件	等静压石�?/span>
**温度	2400ℂ�/span>
控温精度	±1ℂ�/span>
温度均匀�?/span>	±1ℂ�/span>