一、简要介绌�/strong>

加热设备９�/strong>主要适用于粉末材料在高温条件下热处理或者粉末材料的表面材料生长，该回转加热系统集控制系统与炉膛为一体。炉膛使用高纯氧化铝纤维材料，采用电阻丝为加热元件。加热系统设计为上下可开启式结构，方便观察石英管以及物料的状态。石英炉管两端采用不锈钢法兰密封,进气口使用旋转接头连接使搅拌过程顺畅。出气端采用磁流体密封的形式，将抽气接口和真空泵相连，确保实验可在一定的负压条件下进行。四段加热温区设计可以有效延长恒温区的长度，加热丝均匀紧凑地分布在炉管外，有效的保证整个过程中物料充分加热，且与反应气体充分接触。控温热电偶使用适合中低温度条件下的K型热电偶，以提高控温的精确性。该设备能够方便客户对材料进行全过程气氛保护或与真空条件下的实验、�/p>

炉体的控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、炉管旋转控制按钮，加热工作/停止按钮，配有电源和保险指示灯，以便随时观察本系统的工作状态、�/p>

卷对卷设夆�/strong>：在原设备基础上加装铜箔卷对卷装置（客户自备管式回转炉和射频电源机组），PECVD可以左右互换，加�?0寸触摸屏可以控制气路和炉体加热及铜箔收卷参数。炉管法兰常压及负压环境使用：�/p>

气路９�/strong>加装3路质量流量计，量程分别为200�?00�?00sccm：�/p>

真空部分９�/strong>加装电阻真空计，配机械泵1台、�img src="//www.znpla.com/img1/img/daily/2025/07/30/135221_666579_procont.jpg" title="135221_666579_procont.jpg" alt="LFT1200C1600D100IV-RTR-PECVD小型卷对卷连续生长CVD设备.jpg"/>

二、技术参�?/strong>