原子层沉积技术（Atomic Layer Deposition＋�/span>ALD）是由化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition＋�/span>CVD）技术发展而来。该技术被广泛用于半导体行丙�/strong>，例如在硅片等载体上沉积介电陶瓷材料、�/span>ALD作为一种新型的化学气相包覆手段，能够实现对被包覆材料不规则表面的完全赋型包覆，且包覆层厚度的控制精度可以达�?/span>0.1nm，相比传统的固相和液相包覆工艺，ALD在包覆均匀性和包覆修饰层厚度精准调控方面具备数量级上的优势、�/span>

它具有如下特点：

＇�/span>1）通过控制循环次数精确控制包覆厚度，可以得�?/span>0.1 nm级超薄的包覆层、�/span>

＇�/span>2）包覆层非常均匀致密，孔隙率非常低、�/span>

＇�/span>3）生长温度较CVD低，部分包覆层材料可以室温下进行生长、�/span>

＇�/span>4）具有丰富的包覆材料选择性、�/span>

而且，与其他沉积手段相比＋�/span>ALD具有精确的膜厚、形状和成分控制；无需控制反应物通量；极佳的薄膜同质性，均匀性，致密性，完整性；极佳的大面积沉积；高的可重复性及简单的扩产工艺；低的薄膜生长温�?/span>、�/span>ALD粉体包覆技术可以被广泛应用亍�strong>锂电池正负极材料包覆�?span style="font-size: 16px; font-family: 宋体; color: rgb(255, 0, 0);">催化剂寿命延镾�/strong>�?strong>金属粉体表面包覆改�?/span>�?strong>医药精准缓释等领域、�/span>

解明

国家海外特聘专家

柔电（武汉）科技有限公司CEO、国务院重点华侨华人创业团队带头人。毕业于美国密歇根理工大学，先后在美国能源部阿贡国家实验室，科罗拉多大学以及新能源国家实验室从事锂电池方面的研究。主要从事精准纳米包覆与掺杂技术（PNCD）和柔性锂电池的开发与产业化。先后在国际知名杂志上发表论�?0篇，并应邀为《科学》杂志、《应用物理快报》等多种国际性权威刊物和英国皇家化学学会审稿。有12项成果获国家、省市或行业创新创业大赛奖项，有9项成果获政府科技立项和资助，拥有中国和美国授权专�?4项，超过70项专利被国家知识产权局受理。解明教授在粉体ALD表面包覆改性的产业化研究中具有丰富的经验，其开发的基于流化床技术的10公斤级粉体ALD表面包覆改性设备，该设备的单次可加工粉体量在目前国内ALD设备中最高，处于国内领先水平、�/div>

周紫斆�/div>

时间多长啊？

2021-08-30 11:47:22

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