激光功率密度对相同曝光量下氧化石墨烯还原的影响
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2019-12-13
编号:NMJS07224
篇名 激光功率密度对相同曝光量下氧化石墨烯还原的影响
作者: 谢磊 雷小 谭小 刘显 邓益 陈伟
关键词: 碳纳米材 激光功率密 光照还原 氧化石墨 透过 电阻
机构:重庆大学光电工程学院光电技术及系统教育部重点实验室
摘要 采用488nm连续激光在相同曝光量条件下对氧化石墨烯样品进行光照还原实验,并通过透射率和电阻率来表征还原氧化石墨烯的性质.结果表明:在还原过程中,通过透过率和电阻率表征的还原程度呈现相同的变化趋?此外,还原过程分为两个步骤:达到相对稳定状态之前和达到相对稳定状?在达到相对稳定状态之?激光功率密度越?样品的还原程度越髗但当达到相对稳定的状态后,激光功率密度越?样品的还原程度越?基于rGO中含氧官能团的变?通过光子穿透能力和光对rGO的带隙调制作用对这一现象进行了分?