编号：FTJS07356
篇名� PMMA/PVA双支撑膜辅助铜刻蚀泔�一种改进的石墨烯转移技�
作者： 王胜� 卢维� 王桐 夏洋
关键词： 石墨烯转� 聚乙烯醇(PVA) 残胶 铜刻蚀� 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA) 支撑�
机构：中国科学院微电子研究所微电子仪器设备研究中� 北京交通大学理学院 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室 中国科学院大�?br>摘要� 石墨烯具有高载流子迁移率、高热导率、高力学强度等独特性能,可应用于微电子器件、生物传感器、燃料电池、储能器件等,在许多领域拥有广阔的发展前景。如何转移得到少残胶、无破损的石墨烯是其在电子器件中应用必须解决的问题。常规的基于铜刻蚀法的石墨烯转移技术存在因聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)溶解不彻底、残留在石墨烯表面而造成污染的不足。鉴于此,本工作提出了PMMA/PVA双支撑膜辅助铜刻蚀�?即在铜刻蚀法中引入高水溶性的聚乙烯醇(PVA,醇解�?8%)作为高强度PMMA和石墨烯之间的阻隔层,构成双支撑膜。光学显微镜(OM)、拉�?Raman)光谱及电学性能测试的结果表�?该方法转移得到的石墨烯残胶少、表面洁净,具有高的结晶特�?并且其背栅场效应晶体�?BGFET)表现出良好的载流子迁移率。此�?该方法操作简�?同时还是一种潜在的用于多种二维材料转移的普适技术�