编号：FTJS10177
篇名� 化学气相沉积石墨�?铜合金制备与导电、耐磨性能研究
作者： 戴丹 杨科 叶辰 虞锦� 邓丽� 李惠� 江南 林正�
关键词： 石墨�?� 化学气相沉积 原位 导电� 耐磨�
机构：中国科学院宁波材料技术与工程研究所 浙江工业大学化学工程学院 中国科学院宁波材料所杭州湾研究院 中国科学院大学材料科学与光电技术学� 中钨合金科技（莆田）有限公司
摘要� 通过原位化学气相沉积(CVD)技�?在铜粉上包覆石墨�?再通过真空热压技术制备出石墨�?铜合金。研究表昍�铜晶粒表面包覆了高质量的石墨烯。在铜粉表面原位生长的石墨烯均匀分散在铜晶粒的晶界处,而且石墨烯的含量�?只占0.04%(质量分数)。石墨烯/铜合金具有高的导电性能,导电率高�?7%IACS。同�?石墨�?铜合金的摩擦系数降低�?.46,与铜相比降低�?8.7%。石墨烯/铜合金的磨损率降低到2.09×10-4mm3/(N·m),与铜相比降低�?8.6%�