编号：CYYJ03704
篇名� 氨分子对加热引起的石墨层间分离的�
作者： 成晓 余真� 何燕
关键词： 石墨 氨分� 楔形结构 物理插层
机构：青岛科技大学机电工程学院 青岛科技大学山东省高性能碳材料制备与应用工程实验宣�br>摘要� 本文以含氨分子的氨水(NH3·H2O)、碳酸铵((NH4)2CO3)和碳酸氢�?NH4HCO3)为插层剂,通过搅拌、超声、外热激发等方式将其插入石墨夹层中。利用氨分子的“楔形结构”实现插层剂的物理插层。研究了三种插层剂对加热引起的石墨层间分离的影响。结果表�?当使用NH3·H2O作为插层剂时,分离效果最好。此�?FT-IR结果表明没有形成C=N或CN键，这意味着含有氨分子的插层剂没有与石墨发生化学反应，它们是物理插入到层间的�