ä¸å›½ç²‰ä½“网讯3æœ?6日,江è‹è”ç‘žæ–°ææ–™è‚¡ä»½æœ‰é™å…¬å¸ï¼ˆä»¥ä¸‹ç®€ç§°â€œè”瑞新æâ€ï¼‰å‘布2024年年度报告。报告期内,公å¸å®žçްè¥ä¸šæ”¶å…¥ä¸¹üspan style="color: rgb(192, 0, 0);">96,036.04万元,较2023å¹´åŒæœŸå¢žé•¾üspan style="color: rgb(192, 0, 0);">34.94%。归属于上市公å¸è‚¡ä¸œçš„净利润25,137.44万元,较2023å¹´åŒæœŸå¢žé•?4.47%ã€ü/p>
关于è¥ä¸šæ”¶å…¥è¾ƒä¸Šå¹´åŒæœŸå¢žé•?4.94%,è”ç‘žæ–°ææŠ«éœ±üspan style="color: rgb(192, 0, 0);">主è¦åŽŸå› æ˜¯ï¼šæŠ¥å‘ŠæœŸå†…ï¼ŒåŠå¯¼ä½“市场迎æ¥ä¸Šè¡Œå‘¨æœŸï¼Œäº§ä¸šé“¾æ•´ä½“需求æå‡æ˜Žæ˜¾ï¼Œå¹¶ä¸”在AIç‰åº”用技术快速å‘展的带动下,åŠå¯¼ä½“å°è£…ææ–™ã€ç”µå电路基æ¿ã€é«˜æ€§èƒ½çƒç•Œé¢ææ–™ç‰å¸‚场需求呈快速增长趋势。公å¸ç´§æŠ“行业å‘展机é‡ï¼Œåœ¨ä¼˜åŠ¿é¢†åŸŸç»§ç»æå‡ä»½é¢çš„åŒæ—¶ï¼ŒæŒç»æŽ¨åŠ¨æ›´å¤šé«˜é˜¶äº§å“的登陆工作,高阶产å“销é‡å¿«é€Ÿæå‡ï¼Œå¯¼è‡´è¥ä¸šæ”¶å…¥å¢žé•¿ã€ü/span>
æ— æœºå¡«æ–™ã€é¢—粒载体行业æœåС商
è”瑞新æè‡´åŠ›äºŽæ— æœºå¡«æ–™å’Œé¢—ç²’è½½ä½“è¡Œä¸šäº§å“çš„ç ”å‘ã€åˆ¶é€ å’Œé”€å”®ï¼Œå¼€å±•åŠŸèƒ½æ€§æ— æœºéžé‡‘å±žç²‰ä½“ææ–™çš„ç ”å‘å’Œåˆ¶é€ æŠ€æœ¯ã€è¶…微粒å的分散技术ã€è¶…微粒å的填充排列技术以åŠè¶…微粒å为载体的表é¢å¤„ç†æŠ€æœ¯ä¸ºåŸºç¡€çš„æ–°ææ–™ã€æ–°æŠ€æœ¯ã€æ–°å·¥è‰ºå’Œæ–°åº”ç”¨çš„ç ”å‘ã€ü/p>
å…¬å¸ä¸»è¦äº§å“æœ‰åˆ©ç”¨å…ˆè¿›ç ”ç£¨æŠ€æœ¯åˆ¶é€ çš„å¾®ç±³çº§ã€äºšå¾®ç±³çº§è§’形粉体;ç«ç„°ç†”èžæ³•åˆ¶é€ çš„å¾®ç±³çº§çƒå½¢æ— æœºç²‰ä½“ï¼›é«˜æ¸©æ°§åŒ–æ³•å’Œæ¶²ç›¸æ³•åˆ¶é€ çš„äºšå¾®ç±³çº§ã€çº³ç±³çº§çƒå½¢ç²’åï¼›ç»è¿‡è¡¨é¢å¤„ç†çš„å„ç§è¶…微粒åã€å¤šç§æ–¹æ³•åˆ¶é€ çš„åŠŸèƒ½æ€§é¢—ç²’ä»¥åŠä¸ºè§£å†³ç²’å分散开å‘的浆料产å“ã€ü/p>
æœåŠ¡å››å¤§é¢†åŸŸï¼Œâ€œé™ªä½ åšå¡«æ–™è‰ºæœ¯å®¶â€œü/strong>
在åŠå¯¼ä½“å°è£…ææ–™è¡Œä¸šï¼Œå¯¹äºŽå…·æœ‰æ›´ä½ŽCUTç‚¹ã€æ›´åŠ ç´§å¯†å¡«å……ã€æ›´ä½Žçš„æ”¾å°„性å«é‡ã€é«˜å¯¼çƒæ€§çš„çƒå½¢äºŒæ°§åŒ–ç¡…ã€çƒå½¢æ°§åŒ–é“ç‰æ— 机éžé‡‘å±žåŠŸèƒ½æ€§ç²‰ä½“ææ–™çš„市场需求。公å¸ä¾é æ ¸å¿ƒæŠ€æœ¯ç”Ÿäº§çš„çƒå½¢æ— 机éžé‡‘å±žç²‰ä½“ææ–™å…·æœ‰è¡Œä¸šé¢†å…ˆçš„电性能ã€ä½ŽCUT点ã€é«˜å¡«å……率ã€é«˜çº¯åº¦ç‰ä¼˜è‰¯ç‰¹æ€§ï¼Œç²¾å‡†æ»¡è¶³æ–°ä¸€ä»£èŠ¯ç‰‡å°è£…ææ–™çš„é«˜æ€§èƒ½è¦æ±‚ã€ü/p>
在电å电路基æ¿è¡Œä¸™ü/strong>,公å¸ä¾æ‰?0å¹´åŠŸèƒ½æ€§æ— æœºéžé‡‘å±žç²‰ä½“ææ–™çš„æŠ€æœ¯ç§¯ç´¯ï¼Œçªç ´äº†é«˜é¢‘ã€é«˜é€Ÿã€HDIã€ICè½½æ¿ç‰é«˜ç«¯è¦†é“œæ¿ç”¨åŠŸèƒ½å¡«æ–™çš„æ ¸å¿ƒæŠ€æœ¯ï¼Œäº§å“具有低Cut点ã€ä½Žä»‹ç”µæŸè€—ã€é«˜å¯¼çƒç‰ä¼˜è‰¯æ€§èƒ½ï¼Œç²¾å‡†æ»¡è¶³äº†é«˜ç«¯è¦†é“œæ¿å®¢æˆ·çš„需求ã€?024年,销售至高端覆铜æ¿é¢†åŸŸçš„超细çƒå½¢äºŒæ°§åŒ–ç¡…ã€çƒå½¢äºŒæ°§åŒ–é’›ç‰äº§å“è¥æ”¶å 比æŒç»æé«˜ã€ü/p>
在çƒç•Œé¢ææ–™è¡Œä¸šï¼Œéšç€AIç‰ç»ˆç«¯åº”用技术的快速å‘å±•ä»¥åŠæ–°èƒ½æºæ±½è½¦æ¸—é€çŽ‡çš„ä¸æ–æå‡ï¼Œé«˜å¯¼çƒçƒç•Œé¢ææ–™çš„需求日益æå‡ï¼Œå…¬å¸çƒå½¢æ°§åŒ–é“ã€æ°®åŒ–é“ç‰äº§å“坿»¡è¶³è¯¥è¡Œä¸šå¯¹å¯¼çƒå¡«æ–™çš„需求ã€ü/p>
在新应用领域,éšç€å›½æ°‘ç»æµŽçš„高质增长,特高压ã€AIDCç‰è¡Œä¸šçš„快速å‘展,对于电力用ç»ç¼˜åˆ¶å“æå‡ºäº†æ›´é«˜çš„è¦æ±‚,微米级ã€äºšå¾®ç±³çº§ã€çº³ç±³çº§çƒå½¢äºŒæ°§åŒ–ç¡…ç‰äº§å“在3Dæ‰“å°ææ–™ã€é½¿ç§‘ææ–™ã€èƒ¶ç‰‡æ˜¾å½±æ¶²ç‰æ–¹é¢ï¼Œåˆ©ç”¨åˆç†çš„粒度分布ã€ä½Žæ¯”表é¢ç§¯ã€é«˜æµåŠ¨æ€§ã€é€‚宜的光å¦ç‰¹æ€§ç‰ç‰¹ç‚¹ï¼Œå¯¹äºŽåˆ¶å“的性能有大幅度地æå‡ã€ü/p>
çƒå½¢äºŒæ°§åŒ–ç¡…ã€æ°§åŒ–é’›ã€æ°®åŒ–é“ç‰ä¸æ–å–得技术çªç ³ü/strong>
ç»è¿‡40å¹´æŒç»ç ”å‘积淀,公å¸åœ¨å…ˆè¿›åŠŸèƒ½æ€§æ— æœºéžé‡‘å±žç²‰ä½“ææ–™é¢†åŸŸæž„建了独立自主的全产业链技术体系,形æˆäº†æ¶µç›•üstrong>原料设计ã€é¢—粒设计ã€å¤åˆæŽºæ‚ã€é«˜æ¸©çƒåŒ–ã€é¢—ç²’åˆ†æ•£ã€æ™¶ç›¸è°ƒæŽ§ã€è¡¨é¢ä¿®é¥?/strong>åŠæ¨¡æ‹Ÿä»¿çœŸç‰æŠ€æœ¯é›†ç¾¤ï¼Œå®žçŽ°äº†ä»ŽåŸºç¡€ç ”ç©¶åˆ°äº§ä¸šåŒ–çš„å…¨æµç¨‹è‡ªä¸»å¯æŽ§ã€‚便‰˜è‡ªä¸»è®¾è®¡çš„关键设备和技术集群,公å¸åœ¨ç¨³å®šä¾›åº”能力ã€äº§å“性能上具有行业领先优势ã€ü/p>
æŠ¥å‘ŠæœŸå†…ï¼Œå…¬å¸æŒç»èšç„¦é«˜ç«¯èŠ¯ç‰‡ï¼ˆAIã€?Gã€HPCç‰ï¼‰å°è£…ã€å¼‚构集æˆå…ˆè¿›å°è£…(Chipletã€HBMç‰ï¼‰ã€æ–°ä¸€ä»£é«˜é¢‘高速覆铜æ¿ï¼ˆM7ã€M8ç‰ï¼‰ã€æ–°èƒ½æºæ±½è½¦ç”¨é«˜å¯¼çƒçƒç•Œé¢ææ–™ã€å…ˆè¿›æ¯«ç±³æ³¢é›·è¾¾ç‰ä¸‹æ¸¸åº”用领域的先进技术,深化纳米级çƒå½¢äºŒæ°§åŒ–ç¡…ã€é«˜æ€§èƒ½çƒå½¢äºŒæ°§åŒ–é’›ã€å…ˆè¿›æ°®åŒ–物粉体ç‰åŠŸèƒ½æ€§ç²‰ä½“ææ–™çš„ç ”ç©¶å¼€å‘åŠåº”用推广,çªç ´äº†æ°®åŒ–物çƒåŒ–æŠ€æœ¯ã€æ°®åŒ–é“防水解ç‰è¯¸å¤šæŠ€æœ¯éš¾é¢˜ã€ü/span>æŒç»æŽ¨å‡ºå¤šç§è§„æ ¼ä½ŽCUT点Lowα微米/亚微米çƒå½¢äºŒæ°§åŒ–ç¡…ã€çƒå½¢æ°§åŒ–é“粉,高频高速基æ¿ç”¨ä½ŽæŸè€?超低æŸè€—çƒå½¢äºŒæ°§åŒ–硅,çƒç•Œé¢ææ–™ç”¨é«˜å¯¼çƒå¾®ç±?亚微米çƒå½¢æ°§åŒ–é“粈ü/span>,技术储å¤?0ä½™å¹´çš„æ¶²ç›¸åˆæˆçƒå½¢äºŒæ°§åŒ–硅也æ£å—益于高速基æ¿çš„å‘展机é‡ï¼Œäº§å“认è¯é€Ÿåº¦ä¸æ–åŠ å¿«ã€‚å…¬å¸é«˜é˜¶äº§å“è¥æ”¶å 比呈上å‡è¶‹åŠ¿ï¼ŒæŠ€æœ¯å£åž’与å“ç‰Œä»·å€¼åœ¨å®¢æˆ·ä¿¡èµ–ä¸æŒç»æå‡ã€ü/p>
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注:图片éžå•†ä¸šç”¨é€”,å˜åœ¨ä¾µæƒå‘ŠçŸ¥åˆ 除