随着科学技术的飞速发展，半导体材料的革新速度也进一步加快。当前，碳化硅作为第三代半导体材料的典型代表，在新能源汽车、光伏、储能等新兴领域正快速渗透，已成为全球半导体产业的前沿和制高点。同时，我国“十四五”规划已将碳化硅半导体纳入重点支持领域，碳化硅半导体将在我国5G基站建设、特高压、城际高速铁路和城市轨道交通、新能源汽车充电桩、大数据中心等新基建领域发挥重要作用、�/strong>

近年来，我国在SiC材料领域取得了显著进展，但与国际先进水平相比，在晶体生长技术、晶圆加工技术等方面仍存在一定差距。SiC晶体生长过程中面临着晶体缺陷控制、生长速率提升、晶体质量稳定性等难题；晶圆加工方面，则存在加工精度不足、良品率低、加工成本较高等挑战。在当前倡导节能减排的大趋势下，快速稳定地突破碳化硅单晶尺寸和质量等关键问题，才能够更好地占据未来碳化硅市场、�/strong>

在此背景下，中国粉体网将亍�span style="color: rgb(255, 0, 0);">2025�?�?1�?/span>�?span style="color: rgb(255, 0, 0);">江苏·苏州举办第三代半导体SiC晶体生长及晶圆加工技术研讨会，大会将汇聚国内行业专家、学者、技术人员、企业界代表围绕晶体生长工艺、关键原材料、生长设备及应用、碳化硅晶片切、磨、抛技术等方面展开演讲交流。苏州锦丙�strong style="text-indent: 32px; text-wrap: wrap;">源自动化设备有限公司作为参展单位邀请您共同出席、�/strong>

苏州锦业源自动化设备有限公司（隶属于锦源科技控股有限公司）成立于2011�?月，是一家专业从事半导体封装、电子陶瓷（LTCC，HTCC）生产及设备代理的专业服务商，尤为擅长提供微组装整线及电子陶瓷整线工艺、生产解决方案和技术支援、�/strong>

目前，公司主要合作伙伴来自欧洲及日本，合力为业界广大客户提供一流的产品及方案，同时提供专业技术顾问，咨询服务、�/strong>

公司发展至今，培养了具备核心竞争力的人才团队，拥有具备专业素养的若干售前、售后及销售人员，可积极快速响应客户要求并提供优质、高效、称心的服务，为客户创造价值，赢得效益、�/strong>

基于客户多年来的信任及认可，我们将持续秉承技术引领方向、经验规避风险、服务决定未来、伙伴一起成�?”的宗旨，推动行业发展，精心服务用户，求是创新，更创辉煌!

产品介绍

1�?span style="text-wrap: nowrap;">全自动单晶圆清洗� AST-T02-CL

设备功能及特点：

晶圆全自动清洗机�?�?12� 共享机台，切换只需更换FOUP� Adaptor、�/p>

具备多功特性，针对不同应用，集成不同功能。具备高速离心旋转、HPC、二流体、SC1 化学清洗及能加装兆声波等功能、�/p>

适用� Particle 清洗、Flux 清洗及光阻残留清洗等制程 、�/p>

流场模拟腔体设计，独特的密封设计，为制程提供最洁净的清洗环境、�/p>

友善的软件接口，提供量产和工程安全便利的芯片制程、�/p>

2�?span style="text-wrap: nowrap;">单晶�?陶瓷片超声波光阻喷涂朹�/span>

设备功能及特点：

本机是全自动的超声波喷涂机台，可实现取片、对位、喷涂、去边、烘烤、放片等全自动作业。超声波喷涂是利用压电材料将电能转换为机械能，以震荡的方式来雾化流体，可以得到均匀且微细的涂布液滴，以温和且微细的液滴从基材正上方开始沉积涂布，阶梯覆盖率的表现更为优越，也能有效提高材料利用率。利用转速跟喷头移动速度做配合，进行连续性的旋转喷涂，可有效提高产能，更可消除一般设备来回喷涂时，因路径不同所造成的膜厚落差。并且本机采用大口径的供料流道设计，能有效避免管路堵塞的发生，减少设备停机维修时间，提高设备使用的稼动率。腔体结构导入流场数值模拟规划，用以进行优化流道几何设计，避免粒子回流污染涂布腔体、�/p>

3�?span style="text-wrap: nowrap;">高精度光刻机

设备特点:

UV-LED光源

安全又环� 无需预热冷却

选用 UV-LED 光源不再需 要预热和冷却，因� LED � 在曝光期间打开。这些因� 显着有助于相对较低的能源 消耗。LED 的使用寿命比� 统灯高出许多倍，从而降� 了更换灯泡所产生的成本� 停工、购买新灯、调整和� 理旧材料都已成为过去。使 � LED 灯箱既安全又环保� 是健康和职业安全以及环境 保护方面的重要进步、�/p>

高精度自动套刻系绞�/strong>

性能提升 品质升级

作为全场曝光系统� CI-150A/CI-200A能够一 次曝�?50mm/200mm 晶圆,此系统光均匀性已 超过95%，更能提升产 品品质。它更高的吞� 量和更低的投资成本直 接转化为更低的拥有成 本，使其成为适用于各 种光刻工艺的最佳决方案、�/p>

卓越的光均匀�?/strong>

高精� 更精凅�/strong>

采用顶部� 准系统， 选用� 清相机及大视� 镜头� 纳米级对 位承载平台以� 低频隔振系统� 在将掩模定位� 晶圆上时可实� 低至 0.5 μm � 对准精度 、�/p>

会务练�/strong>

联系人：段经琅�/p>

电话９�span style="text-wrap: nowrap;">13810445572

邮箱９�span style="text-wrap: nowrap;">duanwanwan@cnpowder.com

识别二维码了解更多会议信�?/p>