ä¸å›½ç²‰ä½“网讯当å‰ï¼ŒåŠå¯¼ä½“产业已æˆä¸ºä¸€ä¸ªå›½å®¶çš„å…ˆè¿›åˆ¶é€ èƒ½åŠ›ã€ç§‘å¦æŠ€æœ¯å¼ºå¤§çš„ä½“çŽ°ï¼Œå¯¹å›½å®¶ç»æµŽå‘展和科技进æ¥èµ·åˆ°é‡è¦ä½œç”¨ã€ü/p>
åŠå¯¼ä½“行业,工艺主è¦ç”±ä¸¤æ–¹é¢ç»„æˆï¼šè®¾å¤‡ã€ææ–™ã€‚å…¶ä¸ï¼ŒåŠå¯¼ä½“设备多为组装生产,æ¯ä¸€ä¸ªé›¶éƒ¨ä»¶éƒ½å¯èƒ½å†³å®šä¸€å°è®¾å¤‡çš„æ€§èƒ½è¿›è€Œå½±å“èŠ¯ç‰‡åˆ¶é€ çš„æˆè´¥ã€‚å› æ¤ï¼Œé›¶éƒ¨ä»¶å¯¹äºŽåŠå¯¼ä½“设备能å¦å®žçŽ°æ€§èƒ½æŒ‡æ ‡éžå¸¸å…³é”®ã€‚代表性的如é™ç”µå¡ç›˜ã€å¯¼è½¨ã€å¯†å°åœˆã€è½´æ‰¿ç‰ã€ü/p>
å›¾ç‰‡æ¥æºï¼šå¯Œåˆ›ç²¾å¯…ü/p>
ä»Šå¤©çš„ä¸»è§’ï¼Œæ£æ˜¯åŠå¯¼ä½“åˆ¶é€ ä¸â€œèº«ä»·ä¸è²â€çš„éšå½¢åŠŸè‡£ï¼šæ°”ä½“åˆ†é…盘,一ç§å分关键的åŠå¯¼ä½“设备零部件ã€ü/p>
一把天价“花洒“ü/strong>
气体分é…盘,英文åShowerhead,åˆå«æ·‹å–·å¤´ï¼ŒåŒ€æ°”盘,也å¯ç¿»è¯‘为花洒。从外形看就åƒèŠ±æ´’ï¼Œä½†å®ƒçš„ä»·æ ¼å¯é«˜è¾¾å万åå‡ ä¸‡ï¼Œæ¯”ä½ å®¶é‡Œæµ´å®¤çš„èŠ±æ´’é«˜å¤šäº†ã€ü/p>
å›¾ç‰‡æ¥æºï¼Œå¤§å’Œçƒç£?/p>
它的表é¢å¯†å¯†éº»éº»åœ°åˆ†å¸ƒç€å‡ 百上åƒä¸ªå¾®å°çš„通å”,如åŒç²¾å¯†ç¼–织的神ç»ç½‘络,能精准控制气体æµé‡ä¸Žå–·å°„è§’åº¦ï¼Œç¡®ä¿æ™¶åœ†åŠ å·¥çš„æ¯ä¸€å¯¸éƒ½å‡åŒ€â€œæ²æµ´â€åœ¨å·¥è‰ºæ°”体ä¸?/strong>,æé«˜ç”Ÿäº§æ•ˆçŽ‡å’Œäº§å“è´¨é‡ã€ü/p>
它贯穿于清洗ã€åˆ»èš€ã€æ²‰ç§¯ç‰å…³é”®å·¥è‰ºçŽ¯èŠ‚ï¼Œç›´æŽ¥å½±å“åŠå¯¼ä½“工艺精度和产å“è´¨é‡ï¼Œæ˜¯å„类气体分é…过程ä¸çš„关键零部件ã€ü/p>
气体分é…盘在CVD腔体ä¸çš„ä½ç½®
以在沉积环节为例,它的é‡è¦åº”ç”¨æœ‰ä»¥ä¸‹å‡ ä¸ªæ–¹é¢ï¼™ü/strong>
ï¼?)沉积薄膜:CVD常用于在衬底上沉积薄膜,例如硅氧化物(SiO2)ã€å¤šæ™¶ç¡…(poly-Si)ã€é‡‘属氧化物(例如二氧化钛TiO2)ç‰ã€‚气体分é…盘用于将ä¸åŒçš„å‰é©±ä½“气体(例如硅æºã€é‡‘属有机å‰é©±ä½“ç‰ï¼‰æ··åˆå¹¶å–·å°„到衬底表é¢ï¼Œä½¿å…¶åœ¨ä¸€å®šæ¡ä»¶ä¸‹å‘生化å¦ååº”ï¼Œå½¢æˆæ‰€éœ€çš„薄膜ã€ü/p>
ï¼?ï¼‰ç”Ÿé•¿æ™¶ä½“ï¼šæ°”ç›¸ç”Ÿé•¿æ™¶ä½“æ˜¯åˆ¶å¤‡å•æ™¶ç¡…ç‰‡ç‰ææ–™çš„å…³é”®æ¥éª¤ã€‚在CVD晶体生长过程ä¸ï¼Œæ°”体分é…ç›˜ç”¨äºŽå°†ææ–™çš„å‰é©±ä½“气体输é€åˆ°å应腔室ä¸ã€‚通过控制气体的æµé‡ã€æµ“度和喷射速度ç‰å‚数,使å‰é©±ä½“气体在åˆé€‚çš„æ¡ä»¶ä¸‹æ²‰ç§¯åœ¨è¡¬åº•上,并形æˆå•晶晶体结构ã€ü/p>
ï¼?)控制å应环境:气体分é…盘还用于控制å应腔室内的气氛和温度。喷淋头å¯ä»¥æä¾›ç²¾ç¡®çš„æ°”体混åˆç‰©ï¼Œå¹¶åœ¨æ‰€éœ€çš„ä½ç½®äº§ç”Ÿå‡åŒ€çš„æ°”体,确ä¿å应腔室内的气体分布å‡åŒ€ï¼Œä»Žè€Œå®žçŽ°ç¨³å®šçš„æ²‰ç§¯è¿‡ç¨‹ã€ü/p>
ï¼?)满足ä¸åŒè¦æ±‚:通过优化气体分é…盘的设计和æ“ä½œå‚æ•°ï¼Œå¯ä»¥å®žçް坹CVD过程的精确控制,确ä¿è–„膜的å‡åŒ€æ€§ã€è´¨é‡å’ŒåŽšåº¦ä¸€è‡´æ€§ï¼Œä»Žè€Œæ»¡è¶³ä¸åŒåº”用领域对åŠå¯¼ä½“ææ–™çš„需求ã€ü/p>
æžè‡´å·¥è‰ºï¼šä¸ºä½•它贵如黄金>ü/strong>
在晶圆å应过程ä¸ï¼Œæ°”体分é…盘表é¢å¯†å¸ƒå¾®å”(å”å¾?.2-6 mm),通过精密设计的å”é“结构和气体路径,特ç§å·¥è‰ºæ°”体需è¦é€šè¿‡åŒ€æ°”盘上æˆåƒä¸Šä¸‡ä¸ªå°å”åŽå‡åŒ€æ²‰ç§¯åœ¨æ™¶åœ†è¡¨é¢ï¼Œæ™¶åœ†ä¸åŒåŒºåŸŸçš„膜层需ä¿è¯é«˜åº¦å‡åŒ€æ€§å’Œä¸€è‡´æ€§ã€‚å› æ¤ï¼Œæ°”体分é…盘除对æ´å‡€åº¦ã€è€è…蚀性有æžé«˜è¦æ±‚外,对气体分é…盘上的å°å”å”径一致性ã€å°å”内壿¯›åˆºæœ‰ä¸¥è‹›è¦æ±‚,如å”å¾„å°ºå¯¸å…¬å·®å’Œä¸€è‡´æ€§æ ‡å‡†å·®è¿‡å¤§æˆ–ä»»ä¸€å†…å£å˜åœ¨æ¯›åˆºï¼Œåˆ™ä¼šå¯¼è‡´æ²‰ç§¯è†œå±‚厚度ä¸ä¸€ï¼Œè¿›è€Œç›´æŽ¥å½±å“设备工艺良率ã€ü/strong>
å¾®å”结构
气体分é…盘æè´¨æœ‰æ—¶ä¸ºè„†æ€§ææ–™ï¼ˆå¦‚啿™¶ç¡…ã€çŸ³è‹±çŽ»ç’ƒã€é™¶ç“·ï¼‰ï¼Œå¤–力作用下很容易产生æ–è£‚ã€‚åˆæ˜¯å¾®å?0å€å¾„以内的超深å”ï¼Œæ— æ³•ç›´æŽ¥è§‚å¯Ÿåˆ°åˆ‡å‰Šçš„æƒ…å†µï¼Œå¹¶ä¸”åˆ‡å‰Šçƒä¸æ˜“ä¼ å‡ºã€æŽ’å±‘å›°éš¾ï¼Œå®¹æ˜“å› åˆ‡å±‘é˜»å¡žå¯¼è‡´é’»å¤´æ–è£‚ã€‚å› è€Œå…¶åŠ å·¥åˆ¶å¤‡ååˆ†ä¸æ˜“ã€ü/p>
æ¤å¤–,在ç‰ç¦»å体辅助工艺(如PECVDã€å¹²æ³•刻蚀)ä¸ï¼Œå–·æ·‹å¤´ä½œä¸ºç”µæžçš„一部分,还è¦é€šè¿‡å°„频电æºäº§ç”Ÿå‡åŒ€ç”µåœºï¼Œä¿ƒè¿›ç‰ç¦»å体å‡åŒ€åˆ†å¸ƒï¼Œä»Žè€Œæå‡åˆ»èš€æˆ–沉积的å‡åŒ€æ€§ã€ü/p>
选æå¾ˆå…³é”?/strong>
由于åŠå¯¼ä½“åˆ¶é€ è¿‡ç¨‹ä¸ä½¿ç”¨çš„æ°”体å¯èƒ½å…·æœ‰é«˜æ¸©ã€é«˜åŽ‹æˆ–è…蚀性,喷淋头通常采用è€è…èš€ææ–™ï¼Œåœ¨å®žé™…生产ä¸ï¼Œå› 为使用的场景åŠå®žé™…è¦æ±‚的精度ä¸åŒï¼Œç›®å‰æ°”体分é…盘å¯ä»¥æ ¹æ®å…¶ææ–™ç»„æˆåˆ†ä¸ºä»¥ä¸‹ä¸¤å¤§ç±»ï¼š
ï¼?)金属气体分é…盘
金属气体分é…盘的æè´¨åŒ…括é“åˆé‡‘ã€ä¸é”ˆé’¢å’Œé•金属ç‰ï¼Œå…¶ä¸ä½¿ç”¨æœ€å¹¿æ³›çš„金属气体分é…盘æè´¨æ˜¯é“åˆé‡‘ï¼Œå› ä¸ºå…¶å…·æœ‰è‰¯å¥½çš„å¯¼çƒæ€§èƒ½ï¼ŒåŒæ—¶å…·æœ‰è¾ƒå¼ºçš„æŠ—è…èš€èƒ½åŠ›ï¼ŒåŒæ—¶å…¶æ¥æºå¹¿æ³›ï¼Œä¸”æ˜“äºŽåŠ å·¥ã€ü/p>
ï¼?)éžé‡‘属气体分é…ç›—ü/p>
éžé‡‘属气体分é…盘的æè´¨åŒ…æ‹¬å•æ™¶ç¡…ã€çŸ³è‹±çŽ»ç’ƒå’Œé™¶ç“·ææ–™ç‰ã€‚å…¶ä¸å¸¸ç”¨çš„é™¶ç“·ææ–™åˆæœ‰CVD-SiCã€æ°§åŒ–é“é™¶ç“·ã€æ°®åŒ–ç¡…é™¶ç“·ç‰ã€ü/p>
国产çªå›´ï¼šä½•时摘下这颗“明ç â€ï¼Ÿ
æ ¹æ®HengCe è°ƒç ”æ˜¾ç¤ºï¼?023å¹´å…¨çƒåŠå¯¼ä½“喷淋头市场规模大约为10.99亿美元,预计2030年将达到17.96亿美元,2024-2030期间年å¤åˆå¢žé•¿çŽ‡ï¼ˆCAGR)为7.1%ã€ü/p>
å›¾ç‰‡æ¥æºï¼šç›¾æºèšèŠ?/p>
å…¨çƒåŠå¯¼ä½“å–·æ·‹å¤´æ ¸å¿ƒåŽ‚å•†æœ‰Lam Research (Silfex Inc.)ã€Hana Materials Inc.ã€åº”ç”¨ææ–™ã€Worldex Industry & Trading和京鼎精密ç‰ï¼Œå‰äº”å¤§åŽ‚å•†å æœ‰å…¨çƒå¤§çº¦78%的份é¢ã€‚äºšå¤ªæ˜¯æœ€å¤§çš„å¸‚åœºï¼Œå æœ‰å¤§çº?0%份é¢ï¼Œä¹‹åŽæ˜¯åŒ—ç¾Žå’Œæ¬§æ´²ï¼Œåˆ†åˆ«å æœ‰32%å’?%的市场份é¢ã€ü/p>
å›½å†…ä¸»è¦æœ‰æå·žå¤§å’Œã€å¯Œåˆ›ç²¾å¯†ã€æ±Ÿä¸°ç”µåã€é–江先锋ã€ç›¾æºèšèНç‰é›¶éƒ¨ä»¶åŽ‚å•†æ¶‰åŠè¯¥é¢†åŸŸï¼Œä½†æ•´ä½“国产化水平ä»è¾ƒä½Žï¼Œé«˜ç«¯äº§å“ä»ä¾èµ–è¿›å£ã€ü/p>
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注:图片éžå•†ä¸šç”¨é€”,å˜åœ¨ä¾µæƒå‘ŠçŸ¥åˆ 除