中国粉体网讯 2026??5-16日，由中国粉体网主办的?026第三届高端研磨抛光材料大会暨半导体与光学材料超精密加工论坛”在郑州天地丽笙酒店成功召开、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
签到现场
本次大会吸引了来自产业链上下游的500余位专家学者、企业代表及技术人员齐聚一堂，围绕高端研磨抛光材料、关键技术、装备进展及产业应用等议题展开深入交流，共话行业创新与未来趋势、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
会议现场
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
中国粉体网会展事业部总经理孔德宇先生主持开幕式
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
中国粉体网董事长付信涛先生作开幕致辝/p>
大会特邀北京交通大学张志力教授、浙江大学武左佐研究员、长春光机所王孝坤研究员、大连理工大学高尚教授、河北工业大学张建斌教授、河北工业大学何彦刚副研究员?6位行业知名专家与技术领袖出席并作前沿主题报告，分享了最新研究成果与技术洞察，为行业高质量发展注入新动能、/p>
大会精彩报告
张志力教授详细介绍了磁性液体与磁流体的概念，之后从磁流?磁流变平面和曲面抛光、磁流体/磁流变抛光液合成与性能研究、行业存在问题及挑战等多个方面作了系统阐述、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
北京交通大学张志力教授作《磁流体/磁流变抛?--超精密柔性加工及挑战》的报告
蔡斯琪经理在报告中结合实际分享了蔡司电镜在抛光材料研发与质控、精密抛光工艺优化及成品检测等各个方面中的成熟应用、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
卡尔蔡司（上海）管理有限公司业务拓展经理蔡斯琪作《洞察毫微，智控精抛——蔡司显微技术在高端磨抛材料中的应用》报呉/p>
倪自丰副教授分享了纳米氧化铈复合磨料在CMP中的应用性能，进一步探讨了磨粒与晶片在酸碱性环境下的相互作用机制，以及抛光垫弹性模量、磨粒粒径等参数对抛光效果的影响，为碳化硅衬底高效高质抛光提供了理论依据与工艺参考、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
江南大学倪自丰副教授作《纳米氧化铈复合磨粒的制备及其在碳化硅衬底抛光中的应用》报呉/p>
刘添彪总经理详细介绍了超纳六方金刚石的材料特性、合成技术路径，并预测其未来市场可达千亿规模。目前，公司的超纳金刚石抛光液已经通过客户验证、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
苏州极钻纳米科技有限公司刘添彪总经理作《超纳六方金刚石》报呉/p>
张宁聚焦高端研磨抛光材料技术前沿中的不同需求，阐述了欧波同集团运用自身的分析技术以及经验，在电子显微行业中开发的一系列数字化分析方法、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
北京欧波同光学技术有限公司应用工程师张宁作《欧波同智能显微分析方案》报呉/p>
高尚教授介绍了单晶碳化硅基片超精密加工技术需求，他指出了当前面临的挑战：高性能抛光液研究。他在报告中对粗抛液、精抛液磨料的选择及抛光液失效机理展开了深入分析、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
大连理工大学高尚教授作《大尺寸单晶碳化硅基片超精密平整化加工技术》报呉/p>
李晓佩主任所在团队根据不同抛光领域对稀土抛光材料的要求，针对当前纳米颗粒团聚、高纯度控制、抛光液稳定性及高端国产化不足等关键瓶颈，开展了适用于光学元件、显示玻璃及硅晶圆、碳化硅和氮化镓等半导体材料超精密抛光用稀土抛光材料研究。为我国稀土资源高值化利用和高端CMP材料创新发展提供理论依据与技术参考。报告中，李晓佩主任围绕稀土抛光材料的结构特性、抛光机理、行业现状及其在化学机械抛光中的应用展开了系统梳理、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
包头稀土研究院高级工程?稀土抛光材料研究室主任李晓佩作《稀土抛光材料及其在化学机械抛光中的应用》报呉/p>
何彦刚副研究员介绍了化学机械抛光液的组成，并对酸碱、表面活性剂等组分在CMP中的应用作了详细阐述。此外，何彦刚副研究员还就CMP抛光液中发泡对抛光系统的影响作了分析、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
河北工业大学微电子技术与材料研究所何彦刚副研究员作《集成电路化学机械平坦化过程中化学助剂的作用机理研究》报呉/p>
钟荣峰经理系统阐述了硅溶胶的制备方法，分析了硅溶胶作为CMP磨料的应用优?高纯度、窄粒径分布、优异分散稳定性、可调表面电?与现存痛点，并重点探讨了关键性能指标(粒径及分布、固含量、形貌、金属离子含?对抛光效?MRR)、表面质量的影响，为高性能CMP抛光液的开发提供理论依据与技术参考、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
广东惠尔特纳米科技有限公司高级研发经理钟荣峰作《硅溶胶的制备及在CMP中的应用》报呉/p>
郝顺总监介绍了片状硅酸岩矿产品的加工工艺，以及不同工艺下片状硅酸岩产品的性能差异。并分享了钠基硅酸镁铝、化学提纯合成硅酸镁铝、锂基硅酸镁铝在氧化铝及氧化铈等磨料中悬浮效果研究、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
广东久研新材料科技有限公司技术总监郝顺作《片状硅酸盐矿物深加工产品在抛光液中的悬浮效果研究》报呉/p>
严秀英经理介绍了稳定性评价核心指标及主要评价方法与工具，并以不同浓度氧化铈抛光液为例分享了稳定性检测手段及仪器、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
大昌华嘉科学仪器产品经理严秀英作《CMP抛光浆料的配方研究和稳定性评价》报呉/p>
班新星副教授通过分子动力学仿真、纳米划擦实验与抛光工艺优化，阐明了多场耦合作用下表面化学反应的活化机制与原子尺度材料去除规律，为实现碳化硅晶圆的高精、高效抛光加工提供了理论依据与技术支撑、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
河南工业大学机电工程学院副教授、博士生导师班新星作《碳化硅晶圆多场协同抛光技术：机理、工艺与应用展望》报呉/p>
喻硕在报告中指出，当前环保法规趋严背景下，无机粘土凭借无毒、可降解、高性能优势，正逐步替代传统有机合成流变助剂，成为抛光液配方升级的首选材料。之后他对公司改性膨润土悬浮方案的作用机理展开了详细介绍，并分享了具体的实验验证与工艺优化方案、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
浙江宇宏新材料有限公司应用工程师喻硕作《粘土类悬浮流变剂在抛光液中的应用》报呉/p>
高礼明高工介绍了路纳尔的主要产品，包含磨料、研磨液、抛光液三大系列。随后针对MT/MPO光纤连接器、端面加工工艺流程及端面抛光工艺作了全面梳理、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
河南路纳尔新材料有限公司高礼明高工作《MT/MPO光纤连接器端面精密抛光工艺》报呉/p>
董正亚研究员在报告中结合纳米磨料及多种纳米粉?微球的工业案例，系统展示了超声微反应器技术在实现纳米材料精准合成与高效分散方面的核心优势、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
汕头大学化学化工学院教授、化学与精细化工广东省实验室研究员董正亚作《纳米磨料精准合成与分散——超声微反应器技术在纳米粉体与抛光液生产中的工业应用》报呉/p>
长春光机所经过20余年的潜心研究和技术攻关，突破了大口径轻量化SiC反射镜镜坯高刚度制备、高效高精度加工与检测、低缺陷改性与镀膜等关键技术。王孝坤研究员在报告中剖析了大口径反射镜制造主要技术创新，并对技术发展趋势、成果推广、应用情况进行了评述、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所研究?主任王孝坤作《大口径碳化硅非球面反射镜高效高精度制造技术》报呉/p>
王振峰博士基于沉淀法制备体系，梳理了不同沉淀剂及沉淀方式对氧化铈形貌、粒径的调控作用。结合晶体结构与价态分布特征，分析了氧空位、表面羟基化等关键过程，阐述了化学与机械作用协同的抛光机理，为高性能氧化铈抛光粉体的制备提供技术参考与理论支撑、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
内蒙古科技大学王振峰博士作《不同制备方式下氧化铈抛光粉形貌调控及抛光机理探讨《/p>
袁菘研究员针对金刚石原子级无损伤加工的挑战，提出了金刚石多能场辅助抛光新方法：建立金刚石抛光的分子动力学模型，研究抛光过程中磨粒和工件之间的作用机制，揭示多能场作用下金刚石的羟基氧化去除机理，开发新型芬顿抛光液和抛光试验装置，实现金刚石的原子级平坦化抛光和高效去除，为金刚石晶圆的应用提供了理论支持和技术指导、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
香港理工大学助理研究员袁菘作《金刚石晶圆的多能场复合抛光理论与技术》报呉/p>
橋田紳乃介指出，在晶圆制造材料中，抛光材料的粒径分布和Zeta电位及在液体中的分散稳定性对产品的性能有很大影响。如：研磨工序，清洗工序等，都需要对研磨液及晶圆表面的Zeta电位进行斥力或引力的静电相互作用进行评价。他在报告中结合公司产品详细介绍了这些参数的精确测量方法、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
大塚电子(苏州)有限公司副总经理橋田紳乃介作《晶圆、抛光垫与抛光液的静电相互作用评价方法》报呉/p>
李阜阳总经理分享了当前CMP抛光垫及胶带市场竞争格局情况，随后对赛伍多款CMP胶带产品性能的优势及在大硅片行业的应用进展做了详细介绍、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
苏州赛伍应用技术股份有限公司半导体事业部总经理李阜阳作《赛伍半导体CMP胶带国产化进展》报呉/p>
武左佐研究员分享了通过可控制备类“花生状”与类“曲奇状”异形结构SiO2磨料，实现了对国际垄断产品关键性能指标的对标；通过化学枝接技术实现复合磨料界面可控键合，改善了异质材料相容?首创多场耦合CMP新方法，为解决抛光质量与效率的协同提升难题提供了有效途径、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
浙江大学武左佐研究员作《CMP性能提升的挑战与路径：从材料、工艺到系统控制》报呉/p>
赵炯副总经理重点介绍了声学共振混合技术的基本原理、装备关键技术、声学共振混合工艺技术，以及在精密磨具、纳米材料等行业的典型应用情况、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
郑州磨料磨具磨削研究所有限公司副总经理赵炯作《声学共振精密分散技术、装备与应用》报呉/p>
张旭川董事长详细阐述了超光滑抛光技术发展趋势、超光滑表面质量指标的定义及其作用原理，并介绍了贝瑞光电在多个领域研制的极端性的超光滑光学元件和作用，最后对超光滑抛光技术、超光滑光学元件及其应用作轮廓结构性的交流探索、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
成都贝瑞光电科技股份有限公司董事长张旭川作《光学原子级制造技术——超光滑抛光技术研究与应用探索》报呉/p>
叶敏恒工程师分享了中物院机械制造工艺研究所在超光滑磁流变抛光液方面的进展，目前已能够提供超光滑金刚石基、氧化铈基的磁流变抛光液产品，可满足熔石英、单晶硅、ULE、微晶玻璃等材料的超光滑抛光要求（RMS?.2 nm）、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
中国工程物理研究院机械制造工艺研究所叶敏恒工程师作《中物院机械制造工艺研究所超光滑磁流变抛光液进展》报呉/p>
张建斌教授介绍了纳米氧化铈可控制备需求背景、纳米氧化铈的可控制备技术、纳米氧化铈的分离过程、纳米氧化铈的系统表征、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
河北工业大学张建斌教授作《纳米氧化铈的精准与高效制备技术》报呉/p>
合美半导体工艺团队使用合美自研设备，结合多年磨抛经验，对金刚石及类似材料开发了超精密研磨抛光完整工艺方案，并结合各类应用方向的特点定制不同工艺参数，实现用户高要求的标准。王彬总经理在报告中强调，大尺寸金刚石形貌控制的技术突破，将在各个领域的运用中具有重大意义、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
合美半导?苏州)有限公司总经理王彬作《大尺寸金刚石在磨抛工艺中的形貌控制》报呉/p>
展览现场精彩瞬间
本届大会设置了企业展览专区，汇聚了来自高端研磨抛光产业链的近六十家代表性企业同台亮相。参会嘉宾穿行于各展台之间，直观了解最新产品与应用方案，并与展商精英、行业专家围绕技术需求与产业合作展开了密集的洽谈对接、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
展示区人头攒?/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
与会代表参观企业展台
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
与会代表面对面交?/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
部分参展产品
答谢晚宴
4?5日晚，中国粉体网举办了隆重的答谢晚宴。首先进行了颁奖典礼，其中，丹东百特仪器有限公司、苏州极钻纳米科技有限责任公司?4家企业获得优秀产品奖；北京欧波同光学技术有限公司、卡尔蔡司（上海）管理有限公司等12家企业斩获优秀设备奖、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
优秀产品奖颁奖现圹/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
优秀设备奖颁奖现圹/p>
接下来，主办方组织了精彩的文艺表演与抽奖互动节目，气氛热烈融洽。这场欢聚不仅加深了同仁情谊，更凝聚了产业共识，共同为行业的美好未来献上真挚祝福、/p>
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
中国粉体网会展事业部总经理孔德宇晚宴致辞
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
晚宴现场
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
文艺表演
?Zhao Kaixiang/Cnpowder.com.cn
获奖嘉宾合影
总结
本次?026第三届高端研磨抛光材料大会暨半导体与光学材料超精密加工论坛”在热烈的交流与深入的探讨中圆满落幕、/p>
高端研磨抛光材料是先进制程中不可或缺的基石，其技术水平直接关系到产业链的自主与安全。当前，推动关键材料与装备的国产化替代，仍是全行业面临的紧迫任务。本次大会成功搭建了一个高规格的对话平台，促进了知识共享与跨界合作，为凝聚行业共识、激发创新活力注入了强劲动力。展望未来，唯有持续深化协同创新，方能加速突破核心技术壁垒，共同推动我国高端研磨抛光产业向全球价值链高端迈进、/p>
（中国粉体网郑州报道/山川（/p>
