TRILOS超高压纳米均质机在触摸屏用银浆和碳浆的应?/div>

2025/06/04 阅读?621.15MB

方案摘要

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随着现代触控技术的不断进步,未来触控面板将往大尺寸化、低价化,可弯曲折叠化方向发展。传绞/span>ITO薄膜由于存在导电性差、成本昂贵、不可弯曲等本质问题而发展受限。金属网格工艺技术为大尺寸低电阻、窄边框提供了有力技术支持,该技术可以将柔性触控屏尺寸从智能手机的常用面板尺寸覆盖?/span>86英寸以上。采用金属网格透明导电膜来替代ITO透明导电膜已成为未来趋势。目前常用的金属网格工艺是,通过显影、蚀刻等工艺?/span>PET膜上得到预留凹槽(宽度?μm);再将导电银浆刮涂入刻蚀的预留凹槽中,进行低温固化,形成金属网格触控电极及周边引线,得到金属网格电容式触摸屏。该工艺方法由于工艺简单,成本低、透光性好,产品柔性高等优势,逐步成为触摸屏柔性化、大尺寸、轻薄化发展的重要趋势、/span>


在上述工艺技术中,银浆是其核心原材料之一。触摸屏导电银浆,是一种高银含量超细银粉低温导电银浆,采用独特的工艺将超细银粉和高分子树脂精研而成。为了达到高透明度、高导电率的要求,银浆的电阻率要小,且填充于槽内的银浆经过低温固化后,必须与基材具有极佳的结合力和机械性能。目前常用三辊机来分散银浆,但是颗粒细度比较大,分散性也不好,无法有效填充于3微米超细沟槽内。另外,着色用的碳浆也存在上述问题、br/>


为了解决上述技术问题,我们提供了用TRILOS超高压纳米均质机,制作触摸屏用银浆和碳浆的方法、/span>


1.TRILOS超高压纳米均质机介绍9/span>

TRILOS超高压纳米均质机采用高压喷射原理,能够在短时间内产生巨大的剪切力,碰撞力,气穴力,从而将大量能量集中作用于物料,使物料的成分以完全的均质的状态存在,能够大幅提升效率、/span>

TRILOS超高压纳米均质机不堵不漏,采?/span>10寸工业触控屏,可实时监控压力曲线图,最高压力可辽/span>4000bar、/span>


国/span>1均质机原理图

国/span>2 TRILOS超高压纳米均质机


2.实验描述9/span>

先用混料脱泡机预分散银浆或碳浆,然后采用TRILOS超高压纳米均质机+/span>均质分散样品,并研究不同均质次数对浆料分散稳定性的影响。分?/span>采用LISICO分散均质分析测试仪或LUMiSizer分散稳定性分析仪,测试样品的稳定性、/span>


3.实验过程及测试结果:

3.1-strong>银浆9/strong>

采用TRILOS超高压纳米均质机,将银浆样品?/span>2500bar压力下分别处琅/span>1臲/span>5遍、/span>


国/span>3?/span>TRILOS超高压纳米均质机处理银浆


采用LISICO分散均质分析测试仪,测试均质前后银浆样品的分散稳定性,结果如图5所示、/span>

国/span>4 LISICO分散均质分析测试?/span>

由图5可知,均?/span>1次后,银浆样品的弛豫时间有所增加,分散稳定性变差;继续均质几次,样品的弛豫时间减小至均质前的水平,表明其分散稳定性变化不大。粒径测试结果表明,均质前的TDS-0样品皃/span>D50粒径丹/span>5微米;均?/span>4次后+/span>TDS-4样品的粒径降臲/span>2.5微米。此外,电性能也较均质前提髗/span>10%左右、/span>

国/span>5均质前后银浆样品的弛豫时闳/span>


此外我们也采用LUMiSizer分散稳定性分析仪,测试银浆样品的稳定性,结果如图7所示、/span>

国/span>6 LUMiSizer稳定性分析仪(测试条件:4000 g+/span>16h+/span>25ℂ/span>(/span>

国/span>7均质前后银浆样品的不稳定性指数对毓/span>

采用STEP技术,可以定量分析稳定性,得出每个样品的“不稳定性指数”、/span>不稳定性指数越小,表明体系越稳定。由银浆样品的不稳定指数柱状图可知,就实验全过程来看,样品的不稳定性顺序依次为9/span>TDS-4其中TDS-4样品最稳定、/span>

3.2-strong>碳浆9/strong>

采用TRILOS超高压纳米均质机,将碳浆样品?/span>2500bar压力下分别处琅/span>1臲/span>5遍、/span>


国/span>8均质前后碳浆样品的弛豫时闳/span>

由图8可知,均?次后,碳浆样品的弛豫时间大幅减小,分散稳定性变好;继续均质几次,碳浆样品的弛豫时间与均质前相当。表明均质次数不能过多,否则对分散稳定性有不利的影哌/span>、/span>


4.结论9/span>

……(下载阅读全文(/p>

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