设备型号：ZHD300
镀膜方式：多源金属蒸发
真空腔室结构：玻璃钟� + 不锈钢底�?/span>
真空腔室尺寸：�?00mm×H360mm
加热温度：室温～ 250ℂ�/span>
基片台尺寸：Φ100mm
膜厚不均匀性：Φ80mm 范围内≤ ±5.0%
蒸发源：2组金属蒸发源
控制方式：PLC + 触摸屏控刵�/span>
占地面积：主� L1100mm×W800mm
总功率：� 5kW
适用范围：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制夆�/span>

1. 设备一体化设计，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低：�/span>

2. 设备配备多组蒸发源，兼容有机蒸发与无机蒸� , 多源共蒸获得复合膜。设计专业，功能强大，性能稳定：�/span>

3. 适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜，也可用于生产线前期工艺试验等、�/span>