一、工艺痛炸�/strong>

传统纳米粉体、气相纳米气溶胶制备常见难点９�/span>

• 湿化学法制备纳米颗粒存在残留表面活性剂、杂质多，后续清洗工艺复杂，影响催化、传感材料本征性能

• 常规 PVD/CVD 设备依赖高真空，设备成本高、换材周期长，小批量新材料研发迭代慢

• 纳米气溶胶粒径调控难度大、产出稳定性差，标准气溶胶源稀缺，不利于仪器校准、纳米毒理测诔�/span>

• 难以制备块体不互溶合金、双金属复合纳米颗粒，材料体系受陏�/span>

• 配套沉积集成难度高，纳米颗粒从液相转移至器件基底易团聚、二次污柒�/span>

二、方案概�?/strong>

荷兰 VSParticle VSP-G1 采用火花烧蚀（Spark Ablation（�/span>气相物理法，室温常压条件下，对导电电极靶材施加高压火花，瞬时气化冷凝形成 1~20nm 无机纳米颗粒，直接生成稳定纳米气溶胶。无需化学前驱体、无表面活性剂；仅更换电极即可切换材料，支持贵金属、合金、碳、半导体等；模块化设计，可独立作为气溶胶源，也可搭配扩散 / 冲击沉积附件，直接在 TEM 载网、硅片、传感器基底原位制备纳米薄膜，适配纳米粉体研发、气溶胶标定、催化、气体传感、纳米毒理学等研究场景、�/span>

三、方案核心优劾�/span>

• 高纯洁净气相合成：纯物理火花烧蚀，无化学前驱体、无表面活性剂，纳米颗粒本征纯度高，无有机物残畘�/span>

• 材料通用性强：只需更换电极靶材，快速切换单质、合金、双金属异质结构，可制备常规方法难合成的不互溶合金纳米颗粑�/span>

• 常压桌面式，门槛位�/span>：不用真空腔体，占地小，一键启停，参数配方存储，颗粒尺寸、产率精准可调，批次重现性好

• 气溶胶源稳定可控：输出稳定单分散纳米气溶胶，适合颗粒计数器、粉尘仪器校准、纳米暴露毒理实骋�/span>

• 模块化可集成：可独立使用，也可外接沉积组件，直接在基材上制备纳米多孔薄膜，缩短新材料样品制备周期

四、典型应用场�?/span>

• 气相高纯金属 / 合金 / 金属氧化物纳米粉体研叐�/span>

• 催化纳米材料、电催化、气敏传感器纳米层原位制夆�/span>

• 气溶胶检测仪器、颗粒计数器标准纳米气溶胶标定源

• 纳米毒理学、超细颗粒物环境模拟实验

• TEM/SEM 纳米样品快速制样、柔性电子纳米导电线路制夆�/span>

• 新能源、功能无机纳米粉体前沿材料开叐�/span>