SilcoNert?2000�?�?44�?26�?�?11�?60）是非晶硅的化学保护屏障，其进一步官能化以提供可用的*惰性表面。通过应用化学气相沉积（CVD），SilcoNert?2000非常适用于硫化物，汞，氨或其他活性化合物的痕量级测试精度＇�百万分之一）、�/span>

特色与优劾�/span>

?非视距工艺；所有孔和复杂的几何形状都能被涂屁�/span>

?消除吸附和再测试

?获得更快的校凅�/span>

?对结果充满信忂�/span>

SilcoNert?2000 规格

薄膜材质：表面烃化的氢化非晶硄�/span>

镀膜工艺：热化学气相沉积法(非等离子�?

使用温度９�/span>450��C（惰性气体）＋�/span>400��C（氧化性气体）

基板要求:兼容�?不锈钢合金，陶瓷，玻璃，钛及大多数特殊金屝�/span>

尺寸:不超�?8英寸(198厘米)

形状:不限，可镀任何复杂三维结构

标准厚度�?00 - 500 nm

疏水性（接触角）９�= 65��

允许接触的pH� ９�/span>0 - 8