编号：NMJS09164
篇名� 氮化硼包覆碳化硅纤维表面CVD法生长碳纳米管研�
作者： 闫兵 岳建� 邹杨� 楼嘉� 杜作� 刘愚 黄小�
关键词： 六方氮化� 碳纳米管 化学气相沉积 工艺参数 氮化硼羟基化
机构：中南大学粉末冶金研究院 哈尔滨理工大学电气与电子工程学院
摘要� 目的通过调节化学气相沉积(CVD)的工艺参�?实现碳纳米管(CNTs)在氮化硼(BN)包覆的碳化硅纤维(SiCf)表面的可控生长。方法通过控制单一变量,采用扫描电子显微镜、热重分析、X射线光电子能谱等表征手段,系统地研究了CVD工艺参数和BN表面改性对CNTs形貌、长度、含量的影响。结果通过改变CVD工艺参数,实现了对CNTs形貌、长度、含量的调节与控�?获得了CNTs和BN协同改性的SiC纤维(SiC@BN-CNTs)。其�?SiC@BN-OH在反应温度为700℃、反应时间为20 min等参数下具有最大的CNTs产率(质量分数�?0.6%),且形貌良好、含量较高。结论浸渍催化剂和缩短碳源与载体的距离对生长CNTs有积极影�?增加了CNTs的长度和生长密度;通过调节反应温度和时间能够实现对CNTs长度、含量的精确控制,从而获得高质量、高结晶度的CNTs;在反应器�?气体和催化剂的含量相互影�?在制备过程中需要考虑气体和催化剂的比�?按比例同时增加气体和催化剂的流入速率能够获得更好的结果。BN表面羟基化改性处理增强了BN对催化剂的吸�?促进了催化剂颗粒的分�?提高了CNTs的产率�