包含电化学机械抛光！国创中心获批承担省级质量技术攻关项目！

中国粉体网讯近日，山东省市场监督管理局公布了�?026年百个质量技术攻关项目名单》，由国家微纳制造创新中心牵头申报的“MEMS微纳制造关键技术标准化战略性重点项目”成功入选。这不仅是对公司技术实力与产业引领能力的高度认可，也标志着国家微纳制造创新中心在推动微纳制造标准化、构建全链条创新体系方面迈出了关键一步、�/p>

本次入选项目聚焦微纳制造产业“技术突破快、标准制定慢、产业协同难”的核心痛点，围绕碳基MEMS器件、硬脆材料多能场复合加工、电化学机械抛光等前沿方向，系统开展关键技术攻关与标准研制。项目由国家微纳制造创新中心牵头，联合中机生产力促进中心、山东产业技术研究院，构建了“技术研�?中试转化+标准制定+应用推广”四位一体的协同创新模式，打通从技术策源到产业落地的全链条、�/p>

电化学机械抛光（ECMP，Electro-assisted chemical mechanical polishing）是在CMP工艺基础上结合电化学阳极氧化基本原理的一种平坦化技术、�/p>

在电化学体系中，抛光头作为阳极，抛光盘作为阴极，抛光液中添加氢氧化钾等成分充当电解液，抛光时直流电源施加直流电压，晶圆通过抛光垫开孔中的填充的抛光液与抛光盘阴极电极板连通形成闭合回路，晶圆在阳极电压作用下，可激发产生电�?空穴对，空穴能够与抛光液中的氢氧根离子（OH^-）结合生成具有强氧化性的羟基自由基（·OH），羟基自由基可显著促进氧化反应速率、�/p>

ECMP的关键点在于精确调控阳极氧化作用与机械磨削之间的动态平衡。如果阳极氧化速率过快，会导致抛光后的晶圆表面粗糙度增大，而机械磨削作用过大，则会导致材料去除率（MRR）下降，并引入划伤等缺陷；其中抛光液组份（包括研磨料成分、形态及粒径、电解质成分、pH值）、电化学参数（作用电压、电化学腐蚀电流）、抛光垫物性参数（抛光垫通孔形状以及离散形式）和机械参数（抛光液流速、抛光运动部件转速、抛光压力）是影响ECMP抛光工艺效果的重要参数、�/p>

关于国家微纳制造创新中心：

国家微纳制造创新中心汇聚全国各地国家级微纳制造创新资源，在石墨烯半导体、高精度微压传感器、高端抛光装备等领域实现多项“从0�?”的突破。国创中心牵头研制多项国家标准与团体标准，积极筹建标准化技术工作组，目前已牵头发布2项团体标准，另有8项国家标准正在参与制定中、�/p>

参考来源：国家微纳制造创新中心、中国粉体网

（中国粉体网编辑整理/山林（�/p>

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