中国粉体网讯4?7日，高美可半导体设备核心部件研发制造项目在中韩（惠州）产业园仲恺片区奠基动工、strong>项目计划总投资约1.5亿元，投产后预计实现年产值约3亿元，预?027?月完成竣夆/strong>，届时将深度赋能半导体和显示产业发展、/p>
据介绍，韩国高美可集团（KoMiCo）于1996年在韩国首次将半导体设备及部件清洁和涂层业务商业化，并于2013年成立为一家新公司，这是从MiCo公司中分离出来成立的存续公司，旨在促进在半导体设备及部件清洁和涂层领域的专业化发展?023年，KoMiCo通过与MiCo Ceramics合并，从而将其业务扩展至半导体设备的部件制造领域，并努力成为全球半导体设备及部件市场的领导者、/p>
作为全球知名的半导体清洗、涂层企业，高美可集团拥有在半导体设备上的完整清洗和专业涂层技术，主要应用于半导体、显示等产业领域，客户覆盖三星、Intel、京东方、华星光电、中微半导体等头部企业。这些行业需要尖端技术，尤其是在半导体行业，数十甚至数百个工艺在超高温和等离子体等恶劣环境下反复进行。工艺过程中一旦出现任何问题，操作率和生产良率都会大幅下降，造成巨大经济损失。因此，全球的芯片制造商和设备制造商都在不断研究最佳工艺条件、/p>
KoMiCo精密清洗和特殊涂层技术用在半导体制造过程中去除设备零件中的污染物和颗粒，并将其恢复到原始状态，这是提升半导体制造公司成本竞争力的关键工艺，通过延长设备寿命、减少消耗品使用以及通过微污染控制保持最佳工艺良率过程、/p>
在涂层技术方面，为了应对处理不到10纳米的下一代技术，KoMiCo正在开发多种独特的涂层技术。目前公司主要有陶瓷涂层、金属涂层、阳极处理等涂层技术、/p>
KoMiCo陶瓷涂层技?/p>
此次动工的项目，不仅将继承其集团总部先进的工艺技术，还将在清洗与涂层业务基础上，开设全新的生产线，为干法刻蚀及薄膜沉积制程提供高耐腐蚀、高硬度的表面处理方桇/span>。未来，项目将针对乐金显示、华星光电等周边战略客户建立即时响应体系，力争成为华南地区最具竞争力的精密零部件循环利用与处理中心、/p>
来源：仲恺发布、公司官罐/p>
（中国粉体网编辑整理/空青（/p>
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