上海研倍新材料 专业生产金属粉末 氧化铪（HfO₂）粉末

1、产品信�?/span>

2、产品规栻�/span>

样品测试包装：客户指定（�?kg / 密封瓶）

样品产品包装�?kg / 密封瓵�/span>

常规产品包装�?5kg / 塑料桶（内衬聚乙烯塑料袋（�/span>

备注：采用密封包装，内层聚乙烯塑料薄膜袋，外层塑料桶封装，支持定制包装规格（粒径、纯度等可按要求定制）。需存放于干燥、通风、无腐蚀性气体的环境中，避免与酸、碱接触、�/span>

3、产品概�?/span>

氧化铪（Hafnium Oxide，HfO₂），又称二氧化铪，是一种高纯度无机非金属粉末材料，CAS号为12055-23-1，分子量210.49 g/mol。其核心竞争力在于超高的熔点、优异的热稳定性、高介电常数和宽带隙，是微电子、光学涂层及高温陶瓷等高端领域的关键基础原料、�/span>该产品为白色粉末，具有单斜、四方和立方三种晶体结构。单斜相密度9.68 g/cm³，四方相密度10.1 g/cm³，立方相密度10.3 g/cm³。熔点约2810℃，沸点�?400ℂ�/span>，热膨胀系数5.8×10⁻⁶/ℂ�/span>。不溶于水、盐酸和硝酸，可溶于浓硫酸和氢氟酷�/span>、�/span>粒度支持纳米级、微米级�?-3μm）及-325目等规格定制、�/span>该材料具有宽带隙（约5.7 eV）和高介电常数（κ�?0-25（�/span>，折射率�?.95-2.1（可见光谱）。粉末主要适配物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）、等离子喷涂及陶瓷烧结等工艺、�/span>

4、产品用逓�/span>

氧化铪粉末凭借其超高熔点、高介电常数、宽带隙及优异热稳定性，在微电子、光学涂层、耐火材料及核工业等领域扮演着关键基础原料的角色、�/span>

微电子与半导佒�/span>：作为高κ栅极绝缘层材料，用于替代SiO₂的先进金属-氧化�?半导体场效应晶体管（MOSFET）及DRAM电容器介质层，可大幅降低栅极漏电流、�/span>

光学涂层：用于高功率激光器、紫外光学元件及反射镜的高折射率光学薄膜涂层，具有高激光损伤阈值、�/span>

耐火材料与高温陶瓶�/span>：用于制造超高温耐火坩埚、热障涂层及陶瓷基复合材料，在极端高温环境下提供热防护、�/span>

核工丙�/span>：用于制备金属铪及其合金、核反应堆控制棒材料及抗放射性涂料、�/span>