研磨与抛光的区别
2020-10-23 来源:上海矽诺国际贸易有限公
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研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒,通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加?如切削加?。研磨可用于加工各种金属和非金属材料,加工的表面形状有平面,内、外圆柱面和圆锥面,凸、凹球面,螺纹,齿面及其他型面。加工精度可达IT5~01,表面粗糙度可达Ra0.63~0.01微米、/p>
抛光是利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法 两者的主要区别在于:抛光达到的表面光洁度要比研磨更高,并且可以采用化学或者电化学的方法,而研磨基本只采用机械的方法,所使用的磨料粒度要比抛光用的更粗,即粒度大、/p>
对于表面光洁度来说,抛光的表面光洁度比研磨的要更高一些。其实抛光液可以说是研磨的后道工序,可以在同一平面抛光剂机上同时实现研磨和抛光。研磨分为粗磨,精磨; 抛光则分为,粗抛,精抛。很多时候我们都是三道工序来进行产品表面质量的加工:粗磨、精磨、精抛。在进行了这三道工序之后,工件表面的平面度,平行度,粗糙度就相当高了。有些客户对于工件的精度要求就没有那么高了,特别是粗糙度没那么高就只采用前两道工序,或者精磨这一道工序。具体还是要看客户工件本身的质量,以及客户要达到的工件要求、/p>
研磨和抛光可以在同一平面抛光机上实现,但是所有的配置与耗材却不一样。研磨需要用研磨盘和研磨液,抛光则是用抛光液和抛光盘,抛光布轮等耗材。所以在一台平面抛光机上实现研磨和抛光时需要研磨盘,液体等耗材、/p>
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