GMSD2000脱模剂高剪切分散朹�/span>在原�?/span>GM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、�/span>

（洽谈：1-9-9-5-1-8-2-4-5-2-6（�/span>

GMSD2000脱模剂高剪切分散朹�/span>

【脱模剂的简介【�/span>

脱模剂是一种介于模具和成品之间的功能性物质。脱模剂有耐化学性，在与不同树脂的化学成份（特别是苯乙烯和胺类）接触时不被溶解。脱模剂还具有耐热及应力性能，不易分解或磨损；脱模剂粘合到模具上而不转移到被加工的制件上，不妨碍喷漆或其他二次加工操作。由于注塑、挤出、压延、模压、层压等工艺的迅速发展，脱模剂的用量也大幅度地提高、�/span>

【设备简介【�/span>

GMSD2000系列研磨分散设备是上海思峻机械设备有限公司经多年研发而成的一款集研磨分散于一体的新型产品，特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料;我们将三级高剪切均质乳化机进行升级、然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质、�/span>

（洽谈：1-9-9-5-1-8-2-4-5-2-6（�/span>

胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P�?G�?M�?F�?SF等五种乳化头供客户选择（�/span>

弟一及由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向、�/span>

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因� 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出醉终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用、�/span>

（洽谈：1-9-9-5-1-8-2-4-5-2-6（�/span>

GMSD2000脱模剂高剪切分散朹�/span>【设备参数【�/span>