1、混悬液中的微粒大小是不均匀的，大的微粒总是迅速沉降，细小微粒沉降速度很慢，细小微粒由于布朗运动，可长时间悬浮在介质中，使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时，应使混悬微粒有适当的分散度，粒度均匀，以减小微粒的沉降速度，使混悬液处于稳定状态、�/span>

2、传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨，转速只�?000rpm，生产出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，为此有医药厂家在考察了国内的设备之后，放弃了具有极度价格优势的国内设备，来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海SGN高速胶体磨。该设备转速达�?4000RPM，这可以通过变频调速通过皮带加速来实现�?转速是普通分散设�?-4倍，研磨的力度也是普通胶体磨�?-4倍，这样研磨的细度更小，效果更好)混悬液胶体磨GM2000三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔、�/span>

1、SGN胶体磨GM2000采用了三级错齿磨头定转子，磨头定转子间隙�?.2-0.3之间，间隙可通过调节高速研磨机本身的调节柄来调节设备间隙，在转速不变的情况下，间隙越小，速胶体磨研磨、分散效果会越好、�/span>

2、SGN工程师们通过改变皮带轮的传动比例，使原本只有3000rpm的电机，经过传动后设备转速可以高�?4000rpm。实践证明，在磨头定转子间隙不变的情况下，转速越高，高速胶体磨研磨、分散效果越好、�/span>

3、混悬液粒径一般可细化至DN90�?0μm：�/span>

（价格电议：刘经�?3681679740，公司有样机可提供免费实验）

1、转速和剪切速率９�/span>

SGN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达�?5000�?/span>

国内胶体磨，可选择机械密封一�?000转，大约�?4293-215440S-1

通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍、�/span>

2、胶体磨头和间距９�/span>

SGN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，GM胶体模块，GMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块，间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工、�/span>

国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差、�/span>

3、机械密封：

SGN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至更低，可24小时不停运转、�/span>

国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁、�/span>

1、结构：磨头定转子结构；

2、转速范围：0-14000rpm：�/span>

3、线速度范围�?-44m/s：�/span>

4、处理量�?-10000L/H：�/span>

5、工作原理：高速剪切分散；