手机粉体罐/p>
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关注?/p>949
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CVD 真空化学气相沉积设备详情
CVD设备适用于热丝法化学气相沉积金刚石,采用钨丝/钽丝作为加热器,加热分解碳物质,激活化学气相反应,制备金刚石膜、/p>
安装形式
立式
加热器分布方弎/span>
圆周分布
加热器材?/span>
钨丝/钽丝
保温材料
–/span>
MAX温度
3000ℂ/span>
控温精度
±1ℂ/span>
均温?/span>
±5ℂ/span>
极限真空?/span>
5×10-4Pa
均温区尺寷/span>
按客户要求定刵/span>
控制方式
自动/手动
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