MoO_3修饰氧化石墨烯作为空穴注入层影响研究
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2019-01-28
编号:NMJS06747
篇名 MoO_3修饰氧化石墨烯作为空穴注入层影响研究
作者: 杜帅 张方
关键词: 氧化石墨?GO) MOO3 空穴注入 有机电致发光器件(OLED)
机构:陕西科技大学理学陡br>摘要 研究了MoO3修饰氧化石墨烯(GO)作为空穴注入层的影响。采用旋涂的方法制备了GO,再真空蒸镀修饰层MoO3,得到了空穴注入能力强和透过率高的复合薄膜。MoO3的厚分别采用0???nm。通过优化MoO3的厚度发?当MoO3的厚?nm?复合薄膜的透过率达到最大??50nm的光波长下透光率为88%,且此时采用复合薄膜作为空穴注入层制备的结构为ITO/GO/MoO3?nm?NPB?0nm?Alq3?0nm?LiF?nm?Al?00nm)的有机电致发光器件(OLED)性能最佳。通过对OLED进一步的优化,改变Alq3的厚?分别?0?0?0nm,测量其电压、电流、亮度、色坐标和电致发光(EL)光谱等参数发现,当Alq3的厚?0nm时器件性能最佳。最终制备了结构为ITO/GO/MoO3?nm?NPB?0nm?Alq3?0nm?LiF?nm?Al?00nm)的OLED,在电压为10V?最大电流效率达?.87cd/A,与GO单独作为空穴注入层制备的器件相比,提高?0%