编号：CPJS06074
篇名� 硅钼酸@石墨烯复合膜修饰电极及电化学行为
作者： 郭伟� 杨国� 黄德� 刘云�
关键词： 硅钼杂多� 氧化石墨� 一步电沉积 电催�
机构：东华理工大学核资源与环境省部共建国家重点实验室培育基地 东华理工大学化学生物与材料科学学陡�br>摘要� 以氧化石墨烯（GO）和硅钼杂多酸（SiMo_�?2））为原�?用一步电沉积法构筑SiMo_�?2）@ERGO复合膜修饰的氧化铟锡（ITO）电极。采用扫描电镜和X-射线光电子能谱研究了电极的表面形貌和成分,通过循环伏安法对修饰电极的电化学性能进行了研�?并将构筑的修饰电极应用于亚硝酸根和抗坏血酸的测定。结果表�?与空白ITO和分步沉积法得到SiMo12/ERGO修饰电极相比,该方法得到的复合膜电极上SiMo_�?2）的负载量高,稳定性良�?同时对抗坏血酸具有良好的电催化能力�