产品简今/div>
以氧化铝为原料制备，适用于SiC材料的粗抛光工艺段，PH为碱性，配合无纺布抛光皮使用、/p>
产品说明
o1.本产品适合单面抛光机，双面抛光朹
o 2.含高锰酸钾碱性氧化铝抛光涱
o 3.如循环使用，请增加对应的过滤:
o4.去除率高，建议搭配硬度更高的抛光垫、/p>
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