在玻�?PC/PMMA基片上形成高精度光学多层薄膜的精密真空镀膜机；将满足客户需求的多种元件组合在一起，可以形成品质更加优良的薄膜；基片伞架采用中心旋转方式(公转)，减少产生振动和颗粒，使基片能够稳定旋转、�/p>

采用坩埚上没有极片的电子束加热方式作为蒸发源，可以稳定地形成多层膜；采用本公司独有的比率控制法和多点在线监控，可以形成高精度且稳定的光学多层膜；可利用操作性良好的升降机来取出基片伞架、�/p>

使用均匀分布的高离子电流密度的离子源，搭载双电子枪，多点和环型坩埚可镀100层以上，利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程，工件架可选择钟罩式或行星式、�/p>

AR 膜（基材玻璃透过率＞91.5%）：
�?nbsp; 420-680nm波段，单面平均透过率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ：�br style="box-sizing: border-box;"/>�?nbsp; 双面平均透过率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%：�/p>

AS/AF膜测试标准：
�?nbsp; 初始接触角范围为 115±5°：�br style="box-sizing: border-box;"/>�?nbsp; 钢丝绒耐摩擦测试标准：� 0000#钢丝绒，面积� 10*10mm,行程 40 �?分，负载1Kg�?000 次往返摩擦后，接触角大于 100°：�br style="box-sizing: border-box;"/>�?nbsp; 橡皮擦测试标准： 直径 6mm 橡皮擦，行程 25 �?分，负载1Kg� 2500 次往返摩擦后，接触角大于 100°：�br style="box-sizing: border-box;"/>备注：测试样片玻璃需为经过精密抛光过的触摸屏盖板专用玻璃，表面光洁、�/p>

优势９�/p>

•提高沉积速率以实现更高产野�br style="box-sizing: border-box;"/>•在半导体，光电和光子学领域实现高精度工艹�br style="box-sizing: border-box;"/>•坚固耐用且易于维抣�/p>

规格
型号	HCEB-1100
腔体尺寸	Φ1100 x H1520
装载野�/td>	0.8 m2
结构	立式前开门，SUS304不锈钡�/td>
性能
转逞�/td>	10~30RPM（可变）
抽逞�/td>	大气压至1.5×10-3Pa�?0min
极限真空�?/td>	8.0×10-5Pa
膜料	TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
主要配置
夹具系统	中心上旋转伞架，单体或分佒�/td>
加热系统	卤素� / 铠装加热器，**350ℂ�/td>
排气系统	低真空泵� + 高真空泵� + 低温� / Polycold
真空控制系统	真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
镀膜系绞�/td>	电子枪，无氧铜坩锅，阻抗式蒸发源，射�?考夫曼型/霍尔型离子源
充气系统	MFC或APC自动压强控制�?/td>
膜厚控制�?/td>	晶控或光�?/td>
控制系统	PC+PLC
应用
光学薄膜应用	UV/IR截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光片、光触媒、HR膜等
适用波长	300nm~1560nm
注：可客制化（数据仅供参考）