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仪器简今/span>9/span>EPIC离子/分子分析质谱?/span>(EPIC Systems with Pulse Ion Counting and Pole Bias Control)是带脉冲离子计数和四级杆偏压控制的三级过滤四极质谱仪,用于高精密科学分析,过程研究以及中性粒子、自由基、正负离子的UHV分析、/span>
EPIC离子/分子分析质谱仪可增加能量过滤器?/span>Bessel Box能量分析器或45扇形能量分析器,升级臲/span>Hiden皃/span>Plasma/ SIMS系列EQP+/span>EQS+/span>PSM 咋/span>Maxim、/span>
主要特点9/span>6?/span>9?/span>12 mm 直径的四极杆可逈/span>
100 eV离子能量分布+/span>1000 eV可逈/span>
离子源控制,以实现软离子化及表观电势质谱
脉冲离子计数器,连续7个数量级动态范围,Faraday 选项丹/span>5x1010
一级过滤处增加射频,增强抗污染物能劚/span>
信号选通分辨率0.1s,用于能量、质量分布随时间变化戕/span>TOF研究?/span>
程序升温脱附时,温度数值同步显礹/span>
标配UHV罩,液氮冷却罩可逈/span>
MASsoft专业软件控制
可升级至Plasma/ SIMS 配置
技术规格:质量数范围: 1}/span>300 amu(标准配置)
500?/span>1000?/span>2500 amu(选配(/span>
测量速度9/span> 500 points/s
分辨率: 0.1% Valley?/span>1% Valley
动态范围: 107
*低检测分压: 5 X 10-15 mbar +/span>1X10-16 mbar
离子能量9/span> 100eV(标准配置)
1000eV(选配(/span>
信号选通分辨率9/span>0.1s
稳定性: 24h以上,峰高变化小亍/span>0.5%
3F Series Mass Spectrometers (0.68MB)
Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB)
暂无数据