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日本JEOL离子切片仪EM-09100IS
用于TEM 、STEM SEM EPMA AUGER样品制备的创新方 离子切片仪制备薄膜样品比传统制备工具快速、简单。低能量、低角度??)的氩离子束通过遮光带照射样品,大大降低了离子束对样品的辐照损坏。即使是柔软的材料,制备的薄膜质量也极好,对不同成份的样品甚至含有多孔合成物也都能够有效制备、/span>
产品规格
EM-09100IS |
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离子加速电厊/span> |
1 8kV |
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倾斜觑/span> |
Up to 6(0.1/? |
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离子束直徃/span> |
500m(FWHM) |
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Milling rate |
5m/min (加速电厊8 kV Si换算) |
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使用气体 |
氩气 |
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**样品尺寸 |
2.8mm(长度)0.5 mm(宽度)0.1mm(厚度) |
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压力测试 |
潘宁觃/span> |
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主抽真空系统 |
涡轮分子泴/span> |
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CCD相机 |
内置 |
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尺寸 重量 |
主机 |
500mm(W)600mm(D)542mm(H)?3kg |
机械泴/span> |
150mm(W)427mm(D)230.5mm(H)?6kg |
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液晶显示?/span> |
326mm(W)173mm(D)380mm(H)?.7kg |
安装条件
EM-09100IS |
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电源 |
单相 AC100 120V 50/60Hz 500 600VA |
接地纾/span> |
独立地线(100以下) |
氩气 |
使用压力: 0.150.05MPa(1.0 2.0kg/cm2) 氩气流量:约0.2立方厘米 纯度: 99.9999%以上 (氩气、气瓶及调压器由客户自备) 金属配管连接叢JISB0203 RC1/8 |
室温 |
20 25?fluctuation: 1C/hor less变动少于1C/h) |
湿度 |
60% 以下 |
*请提供安放设备的桌子、/span>
*产品外观及技术规格可能未经预告而有所变更、/span>
产品特点9/strong>
用于TEM 、STEM SEM EPMA AUGER样品制备的创新方泔/span>
离子切片仪制备薄膜样品除了需要将样品切成矩形薄片外,不需要溶剂或化学试剂及前处理(打磨或凹坑研磨),比传统制备工具快速、简单。低能量、低角度??)的氩离子束通过遮光带照射样品,大大降低了离子束对样品的辐照损坏。即使是柔软的材料,制备的薄膜质量也极好,对不同成份的样品甚至含有多孔合成物也都能够有效制备、/span>
主要特点:
高质量的透射电镜样品的前处理
快速制夆/span>
无需复杂的前处理
*小限度的表面损伤
暂无数据