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美Nano-master 兆声晶圆清洗机SWC-3000
产品特点９/strong>
SWC-3000兆声晶圆清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含?*的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能、/span>
应用９/span>
。带图案或不带图案的掩模版和晶圆牆/p>
。Ge GaAs以及InP晶圆片清洖/p>
。CMP处理后的晶圆片清洖/p>
。晶圆框架上的切粒芯片清洖/p>
。等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
。带保护膜的分划版清洖/p>
。掩模版空白部位或接触部位清洖/p>
。X射线及极紫外掩模版清洖/p>
。光学镜头清洖/p>
。ITO涂覆的显示面板清洖/p>
。兆声辅助的剥离工艺
特点９/span>
。台式系绞/p>
。无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩幱/p>
。支?2"直径的圆片或9"x9"方片
。微处理机自动控刵/p>
。IR红外?/span>
选配项：
。掩模版或晶圆片夹具
。PVA软毛刷清洖/p>
。化学试剂清?CDU)
。氮气离子发生器
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移动?/p>
工商已核宝/p>
