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牛津Oxford离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE
离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果、/span>
。多模式功能
。能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成
。单晶圆传送模式或集群式晶圆操佛/p>
。双束流配置
。更低的表面薄膜粗糙?/p>
。更佳的批次均匀性和工艺重复?/p>
。准确终点监 — SIMS,发射光
产品特点:
质量薄膜 ——超低污柒/span>
产量高,紧凑的系统体积设 ——运行成本低
已获?*的高速衬底架(高?000RPM)设计,并配备了白光光学监视器(WLOM)——更为准确的实时光学薄膜控制
配置灵活 ——适于先进的研究应?/span>
灵活的晶圆操作方 — 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式
应用:
磁阻式随机存取存储器(MRAM(/span>
介电薄膜
III-V族光电子材料刻蚀
自旋电子?/span>
金属电极和轨遒/span>
超导佒/span>
激光端面镀膛/span>
高反射(HR)膜
防反射(AR)膜
环形激光陀螺反射镜
X射线光学系统
红外(IR)传感器
II-VI族材斘/span>
通信滤波?/span>
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