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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等、span>VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质叉span>OLED等、/span>
?span>?/span>名称 | VTC-600-3HD三靶磁控溅射?/span> | ||
产品型号 | VTC-600-3HD | ||
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下,温?/span>25?#177;15ℂ/span>,湿?/span>55%Rh10%Rh下使用、/span> 1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水) 2、电9/span>AC220V50Hz,必须有良好接地 3、气:设备腔室内需兄/span>注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自?/span>?6mm双卡奖/span> 接头)及减压阀 4、工作台:尺寷/span>1500mm600mm700mm+/span>承重200kg以上 5、通风装置:需?/span> | ||
主要特点 | 1?/span>配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任何调换)、/span> 2?/span>可制备多种薄膜,应用广泛、/span> 3?/span>体积小,操作简便、/span> 4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整、/span> 5?/span>可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪、/span> | ||
技术参?/span> | 1、电源电压:220V 50Hz 2、总功率:2.5KW 3、极限真空度9/span>< E-6mbar(配合本公司设备使用可达?/span>E-5mbar(/span> 4、工作温度:RT-500℃,精度1℃(可根据实际需要提升温度) 5、靶枪数量:3?/span> 6、靶枪冷却方式:水冷 7?/span>靶材尺寸9span>?2′/span>,厚?span>0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同(/span> 8、直流溅射功率:500W(可选) 9、射频溅射功率:300W/500W(可选) 10、载样台9/span>?140mm 11、载样台转速:1rpm-20rpm内可谂/span> 12、保护气体:Ar?/span>N2等惰性气佒/span> 13、进气气路:质量流量计控刵/span>2路进气,1?/span>流量丹span>100 SCCM+span>1?/span>流量?00 SCCM | ||
产品规格 | 主机尺寸9/span>500mm560mm660mm,整朹span>尺寸9/span>1300mm660mm1200mm;重量:160kg | ||
标准配件 | 1 | 直流电源控制系统 | 2奖/span> |
2 | 射频电源控制系统 | 1奖/span> | |
3 | 膜厚监测仪系绞/span> | 1奖/span> | |
4 | 分子泵(德国进口(/span> | 1?/span> | |
5 | 冷水朹/span> | 1?/span> | |
6 | 冷却水管'span>?6mm(/span> | 4核/span> | |
可选配仵/span> | 金、铟、银、铂等各种靶杏/span> 掩膜片/span> 振动样品?/span> | ||
暂无数据
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