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日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能?*限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜、/p>
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000?*样品直径?0 mm
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000?*样品高度?0 mm
特点９/p>
采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样?选配?
记忆功能可存储常用加工条仵/p>
规格９/span>
| 项目 | 说明 | |
| 放电 | 类型 | 磁控二极管放电型（电场垂直于磁场（/span> |
| 电极组成 | 反向平行盘（嵌入磁铁（/span> | |
| 电压 | **0.4Kv DC（直流可变） | |
| 电流 | **40mA DC | |
喷镀速率(**）[条件] 压力?Pa 放电电流:40mA 标靶与样品表面之间的距离:20mm |
Pt?选配? | 15nm/min |
| Pt-Pd靶（选配件） | 20nm/min | |
| Au?选配? | 35nm/min | |
| Au-Pd靶（选配件） | 25nm/min | |
| 样品尺寸 | **直径 | 60mm |
| **高度 | 20mm | |
| 机械泴/span> | 135/162 L/min(50/60Hz) | |
| 靶材? | Pt Pt-Pd (8: 2) Au Au-Pd(6: 4) | |
| 电源要求 | 单相?00VAC(10%)15A(50/60Hz)3-针插头线?3m) | |
| 尺寸 | 宽度 | 450mm |
| 长度 | 391mm | |
| 高度 | 390mm | |
| 重量 | 主机:?5Kg 机械泴?8kg | |
?：喷镀速率仅供参耂/span> ?：主机内不包括靶材。请从选项中选择（鉑，铂-钯，金，?? |
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