看了NIE-3000 (C)离子束清洗系统的用户又看亅/p>
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NIE-3000 (C) 离子束清洗系绞/strong>产品概述:该系统为手动放片取片,但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌、/p> NIE-3000 (C) 离子束清洗系绞/strong>产品特点9/p> 低成?/p> 离子束:高达2KV/10mA 离子电流密度100-360uA/cm2 离子束直径:4"?"?" 兼容反应及非反应气体(Ar O2 CF4,Cl2) 极限真空5x10-7Torr 260l/s涡轮分子泵,串接500 l/min干泵 14"不锈钢或铝质腔体 水冷旋转/倾斜样品?NIE-3500) 自动上下载片(NIE-3500(/p> 基于LabView软件的PC计算机全自动控制 占地面积30"x30" NIE-3000 (C) 离子束清洗系绞/strong>产品应用9/p> 表面处理 离子铢/p> 表面清洗 带活性气体的离子束刻蚀 光栅刻蚀,以及SiO2,Si和金属的深槽刻蚀 NIE-3000 (C) 离子束清洗系 Features9/p> Low Cost Ion Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 A/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6“/p> Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar O2 CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump 14 SS or Al Chambers Water Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500) Auto Load and Unload (NIE-3500) PC Controlled with LabVIEW Software Footprint 30”x30“/p> NIE-3000 (C) 离子束清洗系 Applications9/p> Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam Milling Ion Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2 Si and metals
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