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项目
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技术指栆/span>
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仪器型号
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EM13 LD/635 (或其它选定波长)
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激光波镾/span>
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635 nm (或其它选定波长，高稳定半导体激光器)
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膜厚测量重复?sup>＇span>1（/span>
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0.5nm (对于平面Si基底?00nm的SiO2膜层)
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折射率测量重复?sup>＇span>1（/span>
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5x10-3(对于平面Si基底?00nm的SiO2膜层)
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单次测量时间
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与测量设置相关，典型3s
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**的膜层范図/span>
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透明薄膜可达1000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
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光学结构
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PSCA?#916;?span>0?80附近时也具有极高的准确度（/span>
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激光光束直徃/span>
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2mm
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入射角度
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40-90可手动调节，步进5
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样品方位调整
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Z轴高度调节：6.5mm
二维俯仰调节?#177;4
样品对准：光学自准直和显微对准系绞/span>
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样品台尺寷/span>
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平面样品直径可达170mm
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**外形尺寸
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887 x 332 x 552mm (入射角为90??
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仪器重量（净重）
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25Kg
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选配仵/span>
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水平XY轴调节平移台＋/span>真空吸附泴/span>
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软件(ETEM)
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* 中英文界面可逈/span>
* 多个预设项目供快捷操作使?/span>
* 单角度测野span>/多角度测量操作和数据拟合
* 方便的数据显示、编辑和输出
* 丰富的模型和材料数据库支?/span>
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移动?/p>
工商已核宝/p>
