特点９�/h3>

• 次纳米量级的高灵敏度

  国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量极薄纳米薄膜，膜厚精度可达�?.2nm、�/div>

• 1.6秒的快速测野�/strong>

  国际水准的仪器设计，在保证精度和准确度的同时，可�?.6秒内快速完成一次测量，可对纳米膜层生长过程进行测量、�/div>

• 简单方便的仪器操作

  用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置、�/div>

应用９�/strong>

• EM12适合于中端精度要求的科研和工业环境中的新品研发或质量控制、�/li>
• EM12可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k、�/li>
• EM12可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）、�/li>

技术指栆�