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需要在负胶的SU-8实现正胶轮廓？？
新产品光刻胶轮廓修改剂带来了新的契机、/span>
轮廓修改剂直接旋涂在Pre-baked的SU-8光刻胶顶部，降低了光刻胶膜顶部的光灵敏度，取得了正型的侧壁、/span>
影响SU-8轮廓效果的原囟/span>
1）光刻胶类型及厚?/span>
2）XP TQC胶的厚度
3）曝光量
4（span>显影后的去膜野/span>
5）曝光类型（靠近或软接触（/span>
正锥形轮廓：
1）在Micro-Molding应用中，实现模具去除步骤
2）需要在结构的顶部和侧壁上的后续金属沉积步骤
暂无数据
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