看了KMPR 1000系列光刻胶的用户又看亅/p>
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KMPR为负性光刻胶,用作DRIE蚀刻掩膜实现高深宽比的图案,它还被广泛用作MEMS与生物器件的电镀模具。因为KMPR减少了Cross-link密度,在Hard baked之前,KMPR比SU-8更容易剥离。KMPR负性光刻胶可在任何(PGMEA),或(TMAH)的显影剂中得到显影
KMPR 1000系列的特?/span>
1)临时或**的应用程庎/span>
2)膜厚:2-75 um
3)兼容标准水性显影剂
4)高宽比成像和垂直侧壁,深宽比:>5:1
5)单一旋途可?00微米
6)减少开裁/span>
7)优异的金属粘附?/span>
8)优异的电镀膜液稳定
相关溶液9/span>
显影液:SU-8 Developer
去胶液:Remover PG
增附剂:OmniCoat
一般储存温度:
-10C
暂无数据