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日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能?*限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜、/p>
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000?*样品直径?0 mm
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000?*样品高度?0 mm
特点9/p>
采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样?选配?
记忆功能可存储常用加工条仵/p>
规格9/p>
暂无数据
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