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产品简今/span>
H20-UVL真空紫外单色仪在真空环境下覆盕/span>100-400nm'/span>3-12.4eV),在大气环境下覆盖190nm-400nm'/span>3-6.5eV)。结合真空紫外光源和蜗轮驱动实现快速精确的光谱扫描,可作为一个优异的真空紫外单色光源使用。在分辨率要求不高的情况下,配备单通道探测器,H20-UVL还是一个高性价比的真空紫外光谱分析系统、/span>技术特炸/span> 单片式光学结构确保光通量**化,高光学稳定?/span> 配备4型消像差单色仪光栅,全光谱范围线色散均匀 全自动蜗轮高速驱动光栄/span> 光栅表面镀氟化镁膜,优匕span>120nm以上波长的输凹/span>
典型应用 透射反射测量 荧光激叐/span> 可调滤波/光源 激光谐波滤泡/span>技术指栆/span>
| 光学设计 | HJY**皃/span>4型消像差单色仪光栄/span> | 
| 焦长 | 200 mm | 
| 孔径 | f/4.2 | 
| 刻线密度 | 1200 gr/mm | 
| 光学镀膛/span> | 针对121nm优化皃/span>MgF2膛/span> | 
| 偏转觑/span> | 64 | 
| 色散 | 100nm夃/span>3.6 nm/mm | 
| 驱动 | 高速蜗轮驱?/span> | 
| *小步迚/span> | 0.06 nm | 
| 速度 | 400 nm/s | 
| 精度 | +/- 0.2 nm戕/span>+/-0.06 nm (*) | 
| 可重复?/span> | +/-0.06 nm | 
| 分辨玆/span> | 优于0.5 nm (**) | 
| 高真穹/span> | 10-5 mbar (***) | 
| 真空泵法?/span> | DN40 KF | 
| 入射/出射接口 | 测微狭缝(10 um 2 mm) | 
| 入射/出射法兰 | DN25 KF | 
| 电脑接口 | USB2.0 | 
| 可选项 | |
| 超高真空 | 10-9 mbar | 
| 狭缝高度调节?/span> | 2 4 6 mm | 
| (*)使用我们固件中的软件驱动矫正可以提高单色仪的精度 | |
| (**)使用宼/span>10微米,高2mm的狭缝在121nm处测野/span> (***)H20-UVL不含真空泵和真空讠/span> | |
附件 前镜腔,配备两块超环面镜,实现光源和单色仪之间的光学匹配 后镜腔,配备两块超环面镜,实现单色仪和样品室之间的光学匹酌/span> 样品室,可搭轼span>4块直径不大于25mm的样?/span> 偏振插片 制冷机,*低至4K 真空泴/span>
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