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装置概述
本装置是催化剂预处理装置，拥有四个气路，两套独立的气路控制单元，加热炉安装在装置的左右两侧，选用精密的控制仪表，使得装置具有控温精度高、可靠性高、操作简便、结构紧凑的特点。该装置可用于催化剂预处理，包括还原、氧化、碳化、硫化、氮化等，也可用于复合材料的后处理、/span>
技术参?/span>
- 气路?-4（任选）：/span>
- 加热炉：1-2（任选），加热炉温度Max?200 ℃；
- 气体质量流量器：0 500 mL/min（任选）：/span>
- 工作压力：常压；
- 温度控制?#177; 0.5 ℃；
- 计算机控制（任选）、/span>
暂无数据
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