品级９/p>合格?/span>
外观９/p>其他
有效物质含量９/p>-
执行质量标准９/p>-
密度(g/c?９/p>-
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应用特征本产品适用于晶圆衬底及光电晶体基材研磨抛光后制 。主要清洗客户产品表磨抛后的氧化铈等金属粉体和氧化物，有效去陣/span>CMP制程在晶体表面残留的金属化合物、油污、粉尘及研磨液，并且易于漂洗。还具有抗静电的能力，不易吸附空气中的灰尘杂质。满足有金属粉检测要的客户标准。属于集特斯联合研发的配方，JTS-SY03对大多数晶体材料无腐蚀，对人体相对友好，加温无刺激性气味更不影响使用环墂/span>
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晶圆衬底磨抛清洗液Q的工作原理介绍？晶圆衬底磨抛清洗液Q的使用方法？晶圆衬底磨抛清洗液Q多少钱一台？晶圆衬底磨抛清洗液Q使用的注意事顸/li>晶圆衬底磨抛清洗液Q的说明书有吗＞/li>晶圆衬底磨抛清洗液Q的操作规程有吗？晶圆衬底磨抛清洗液Q的报价含票含运费吗？晶圆衬底磨抛清洗液Q有现货吗＞/li>晶圆衬底磨抛清洗液Q包安装吗＞/li>
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