CF系列化学机械抛光机_压力盘独立驱动型(IDP�?玉力盘独立驱动型CP系列化学机械抛光机每一个压力盘都由单独的一个伺服减速电机驱动，不同于中心导轮驱动型CP设备通过摩擦力助力驱动的方式，压力盘独立驱动型CP设备可以实现精确的压力盘转速控制，同时，由于抛光区域内避免了摩擦接触的结构，减少了抛光液结晶颗粒的产生，从而减少了晶片的表面颗粒污染及划伤的几玆�压力盘独立驱动型抛光机每个压力盘的转速都可以分别设定，根据每个压力盘加压气缸的特性，通过对压力盘转速的细微调节可以实现不同压力盘之间几乎零差异的加工结果、�img src="//www.znpla.com/img1/img/daily/2024/06/05/083202_435880_procont.png" title="083202_435880_procont.png" alt="image.png" width="665" height="472" style="width: 665px; height: 472px;"/>