参考价栻/p>面议
型号
WP-301D晶片双面研磨朹/span>品牌
宏华电子产地
广东样本
暂无成品细度９/p>-
入料粒度（mm）：
-工作原理９/p>其他
粉碎程度９/p>其他
单位能耗：
-产量９/p>-
装机功率（kw）：
-
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技术特点：
●主要用于碲锌镉，碲镉汞，砷化镓，磷化铟，锑化铟等材料的双面精密研磨工艺，太阳轮、齿圈可联动也可各自独立控制：br style="box-sizing: border-box;"/>●配备自主、优化的高精度镶嵌式主轴系统及压力精密实时控制系统；上盘采用浮动式连接方式，确保磨抛过程中与下盘随时保持平行；磨抛压力可按设定好的工艺参数闭环监控并修正、/span>
性能指标９/span>
| WP-301D晶片双面研磨朹/span> | |||
| 研磨方式 | 通过行星齿轮旋转系统，实现晶片上/下表面双面研磨抛先/span> | ||
| 结构方式 | 1根主?2个研磨盘??个抛光盘) | ||
| 研磨尺寸 | mm | Max.Ø150(6英寸) | |
| 主轴 | 主轴数量 | - | 1 |
| 下盘转逞/span> | rpm | 0~30 | |
| 研磨盗/span> | 材料 | 玻璃 | |
| 直径 | mm | Ø766 | |
| 数量 | ?/span> | 1（上盘）?（下盘） | |
| 抛光盗/span> | 材料 | - | 陶瓷 |
| 直径 | mm | Ø772 | |
| 数量 | ?/span> | 1（上盘）?（下盘） | |
| 游轮牆/span> | 数量 | ?/span> | 5 |
| 磨抛压力 | 压力调节范围 | kg | 0.1~50 |
| 设备 | 外形尺寸WxD×H | mm | 1572×1053×2533 |
| 设备重量 | kg | ?300 | |
暂无数据
高端装备制造作为国家产业升级和科技创新的关键产业，正在引领全球经济的新一轮变革，它不仅代表着一个国家的工业实力，更是衡量其在全球产业链中位置的重要标志?nbsp;根据国家知识产权局办公室印发的《战?/p>
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